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沉积参数对CVD金刚石晶粒尺寸的影响 被引量：2

Influence of Deposition Parameters on Diamond Grain Size in DC Arc Plasma Jet CVD
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摘要 采用DC Arc Plasma Jet CVD方法制备了金刚石自支撑膜体,考察了温度分布、沉积腔压和CH4/H2等沉积参数对所制备金刚石膜体中的晶粒尺寸的影响.实验发现沿温度降低的方向和增加腔压会使晶粒尺寸变大,当CH4/H2超过15%后,有带刻面的晶粒出现.本次实验最大的晶粒对角线长度超过1mm.
作者 陈广超 兰昊 李彬 戴风伟 Askari J 黑立富 宋建华 李成名 唐伟忠 佟玉梅 吕反修
机构地区 北京科技大学
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期348-351,共4页 半导体学报（英文版）
基金 国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA305508),国家自然科学基金(批准号:50472095),教育部留学基金(批准号:2003-14),北京科技新星计划(批准号:2003A13)和北京市自然科学基金(批准号:2062015)资助项目
关键词 金刚石 晶粒尺寸 等离子体喷射CVD
分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献20

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共引文献1

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引证文献2

二级引证文献2

Journal of Semiconductors
2007年 第z1期

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