摘要
论述了边缘相移掩模的原理、制作方法和工艺步骤，并给出了一些实验结果。
The principle,making method,technology and procedure for the rim phase shifting mask are described.Some experimental results are given.
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期13-18,共6页
Opto-Electronic Engineering
基金
国家自然科学基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金
关键词
光刻
相移掩模
边缘增强
Photolithography,Phase shifting mask,Edge enhancement.
