磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展
被引量：1
Development of Tungsten Carbide Film Preparation by Magnetron Sputtering and its Application
摘要
综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态。文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面。
出处
《浙江化工》
CAS
2005年第1期33-36,共4页
Zhejiang Chemical Industry
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