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薄膜应力测定研究现状 被引量:9

Current status of research on measurement of the stress in thin film
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摘要 简介薄膜应力的产生原因,根据薄膜应力测定方法研究的现状,对一些主要测定方法的基本原理及各自的特点进行了综述。 The cause of the stress in thin film is introduced simply. And the primary theories and characteristics of some important measurement methods of stress in thin films were summarized according to the current status of the improvement of the methods.
作者 张文 曹兴进
出处 《现代制造工程》 CSCD 2005年第4期127-130,共4页 Modern Manufacturing Engineering
基金 重庆大学机械学院基础研究项目资助
关键词 薄膜 应力 测定 原理 Thin film Stress Measurement Theory
  • 相关文献

参考文献8

二级参考文献11

  • 1李美栓 李铁藩.-[J].材料研究学报,1995,9:205-205.
  • 2李美栓,材料研究学报,1995年,9卷,增刊,205页
  • 3松田恭司,住友金属,1995年,47卷,77页
  • 4松田恭司,铁与钢,1992年,79卷,48页
  • 5Watson G H Jr,J Appl Phys,1981年,52卷,956页
  • 6张立新,金属学报,1980年,16卷,411页
  • 7Shin S,Proc 3rd Int Conf Light Scattering in Solids,1976年,401页
  • 8Wang W L,J Appl Phys,1996年,80卷,3期,1846页
  • 9Wang W L,Thin Solid Films,1992年,215卷,174页
  • 10何家文,提高淬火钢X射线应力测定准确度-兼评平行光束法(科学技术报告),1975年

共引文献37

同被引文献83

引证文献9

二级引证文献24

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