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掺杂元素的Lewis酸强度对掺杂In_2O_3电性质的影响 被引量:1

Effect of the Lewis Acid Strength of Doping Elements on Electronic Properties of Doped In_2O_3
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摘要 掺杂元素的Lewis酸强度对掺杂In_2O_3电性质的影响文世杰G.Campet(LawrenceBerkeleyLaboratory,BerkeleyCA94720,USA)(LaboratoiredeChemieduSolideduCNRS,Uni... This paper discussed the relation between the electronic properties of doped In2O3 and the Lewis acid strength of doping elements. The authors pointed out the key to the choice of appropriate doping elements for improving electric properties of doped In2O3. The carrier concentration and mobility of doped In2O3 increased when Ti4+,Ge4+ and Sn4+ were used as doping elements.
出处 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期115-116,共2页 Chinese Journal of Applied Chemistry
关键词 电子接受体 掺杂 氧化铟 导电材料 Lewis acid ,In_2O_3 ,doping
  • 相关文献

参考文献3

  • 1文世杰,J Solid State Chem,1992年,101卷,203页
  • 2文世杰,Mat Sci Eng B,1992年,B14卷,115页
  • 3Zhang Y,Inorg Chem,1982年,21卷,3889页

同被引文献7

引证文献1

二级引证文献11

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