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介孔SBA-15中有机模板剂的紫外/臭氧法脱除 被引量:5

UV/ozone Treatment on the Removal of the Organic Template from Mesoporous SBA-15
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摘要 紫外/臭氧法用于脱除有序介孔材料SBA-15中有机模板剂.该方法是一种非加热光化学降解法,简单、易操作,可在温和条件下彻底除去SBA-15中三嵌段共聚物有机模板剂P123.通过XRD,TEM,FT-IR和BET等对SBA-15经不同方法脱除模板剂前后的详细表征,表明紫外/臭氧法在彻底脱除SBA-15中有机模板剂后,保留了很好的骨架有序性,比表面积更大,孔道更加开放,克服了高温焙烧脱除模板剂造成的孔道收缩. UV/ozone treatment was applied to remove the organic template within mesoporous SBA-15. This method is a non-thermal photochemical treatment, which is simple to operate and can easily eliminate the triblock copolymer Pluronic P123 from SBA-15. The as-synthesized, UV/ozone treated and calcined SBA-15 samples were characterized thoroughly by XRD, TEM, FT-IR and BET. The results showed that the UV/ozone treatment was an effective method to remove the template from pores of SBA-15 completely under mild conditions, and the final product maintained highly ordered frameworks, higher surface areas and larger pore openness, avoiding the structure contraction by high thermal calcinations.
出处 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第19期2113-2116,共4页 Acta Chimica Sinica
基金 国家自然科学基金青年基金(No.50503011) 上海市“浦江人才计划”(No.05PG14051) 上海市重点学科建设项目(No.P1701) 上海市教委重点项目(No.06ZZ95) 上海市教育发展基金会(No.2007CG72)资助项目
关键词 介孔SBA-15 紫外/臭氧法 有机模板剂 mesoporous SBA- 15 UV/ozone treatment organic template
  • 相关文献

参考文献17

  • 1Davis, M. E. Nature 2002, 417, 813.
  • 2Hitz, S.; Prins, R. J. Catal. 1997, 168, 194.
  • 3Tanev, P. T.; Pinnavaia, T. J. Chem. Mater. 1996, 8, 2068.
  • 4Kawi, S.; Lai, M. W. Chem. Commun. 1998, 1407.
  • 5Grieken, R. van; Calleja, G.; Stucky, G. D.; Melero, J. A.; Garcia, R. A.; Iglesias, J. Langmuir 2003, 19, 3966.
  • 6Tian, B.; Liu, X.; Yu, C.; Gao, F.; Luo, Q.; Xie, S.; Tu, B.; Zhao, D. Chem. Commun. 2002, 1186.
  • 7Melian-Cabrera, I.; Osman, A. H.; van Eck, E. R. H.; Kentgens, A. P. M.; Polushkin, E.; Kapteijn, F.; Moulijn, J. A. Stud. Surf. Sci. Catal. 2007, 170A, 648.
  • 8Parikh, A. N.; Navrotsky, A.; Li, Q. H.; Yee, C. K.; Amweg, M. L.; Corma, A. Microporous Mesoporous Mater. 2004, 76, 17.
  • 9Li, Q. H.; Amweg, M. L.; Yee, C. K.; Navrotsky, A.;Parikh, A. N. Microporous Mesoporous Mater. 2005, 87, 45.
  • 10袁昊,李庆华,沙菲,解丽丽,田震,王利军.紫外光解法在制备低介电常数氧化硅分子筛薄膜中的应用[J].物理化学学报,2007,23(8):1219-1223. 被引量:3

二级参考文献54

  • 1王娟,张长瑞,冯坚.三甲基氯硅烷对纳米多孔二氧化硅薄膜的修饰[J].物理化学学报,2004,20(12):1399-1403. 被引量:18
  • 2Saito,Y.; Yoshikawa,T.J.Cryst.Growth 1993,134,695.
  • 3Stephan,O.; Ajayan,P.M.; Colliex,C.; Redlich,P.; Lambert,J.M.; Bemier,P.; Lefin,P.Science 1994,266,1683.
  • 4Suenaga,K.; Yudasaka,M.; Colliex,C.; Iijima,S.Chem.Phys.Lett.2000,316,365.
  • 5Jia,N.Q.; Wang,L.J.; Liu,L.; Zhou,Q.; Jiang,Z.Y.Electrochem.Commun.2005,7,349.
  • 6Zhao,D.; Feng,J.; Huo,Q.; Melosh,N.; Fredrickson,G.H.;Chmelka,B.F.; Stucky,G.D.Science 1998,279,548.
  • 7Wang,L.J.; Guo,C.W.; Yan,S.R.; Li,Q.Z.Microporous Mesoporous Mater.2003,64,63.
  • 8Iijima,S.Nature 1991,354,56.
  • 9Xiong,Y.J.; Li,Z.Q.; Guo,Q.X.; Xie,Y.Inorg.Chem.2005,44,6506.
  • 10Hellgren,N.; Johansson,M.P.; Broitman,E.; Hultman,L.;Sundgren,J.E.Phys.Rev.B 1999,59,5162.

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引证文献5

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