摘要
采用溶胶-凝胶法制备了TiO2薄膜,以10mg/L甲基橙为目标降解物,研究了焙烧温度、镀膜层数、紫外线光照时间对TiO2薄膜光催化性能的影响。实验结果表明,焙烧温度为500℃,镀膜层数为三层所制得TiO2薄膜光催化活性最好,并且具有稳定、持续的降解效果。
TiO2 thin films were prepared by sol - gel method. The influences of calcining temperature and coat- catalytic activities of the TiO2 thin films were steady and lasting.
出处
《沈阳航空工业学院学报》
2009年第2期90-92,共3页
Journal of Shenyang Institute of Aeronautical Engineering
关键词
二氧化钛
光催化
薄膜
甲基橙
TiO2
photocatalyst
thin film
thin film
methyl orang
