三氯氢硅和四氯化硅混合比对多晶硅生产的影响被引量：5

在线阅读下载PDF

导出

摘要传统现点认为:将三氯氢硅和四氯化硅按一定比例混合进入还原炉进行多晶硅还原生产,可降低消耗,提高效益.本文通过实验研究,得出在现有工艺条件下,将四氯化硅加入三氯氢硅同时进入还原炉进行多晶硅生产,并不能起到预期的效果.经改进后的工艺在实际生产应用中,取得了较好成果.

作者丁国江

机构地区峨嵋半导体材料厂

出处《四川有色金属》 1998年第3期14-15,19,共3页 Sichuan Nonferrous Metals

关键词混合比三氯氢硅氢还原四氯化硅多晶硅

同被引文献41

1朱骏业.三氯氢硅合成尾气的综合回收[J].世界有色金属,1995,20(6):25-28. 被引量：9
2孙福楠.高纯二氯二氢硅的生产和应用[J].化工新型材料,1996,24(11):27-28. 被引量：3
3李国栋,张秀玲,胡仰栋.电子级多晶硅生产工艺的热力学分析[J].过程工程学报,2007,7(3):520-525. 被引量：25
4沈祖祥,毋克力,严大洲,等.四氯化硅氢化生产三氯氢硅的方法:CN 1436725[P].2003-08-20.
5蒋荣华肖顺珍.国内外多晶硅发展现状.半导体技术,2001,26(11):7-10.
6吴锋,钟真武.西门子法多晶硅绿色生产工艺[A].见:魏启东,袁竹林.第十一届中国光伏大会暨展览会会议论文集[C].南京:东南大学出版社,2010:296-297.
7赵兴华,蒲晓东,陈绍章,等.四氯化硅生产三氯氢硅的方法:中国,101445245[P].2009-06-03.
8Michael A Rodgers, Tempe, Ariz. Process for manufacturing pure polycrystalline silicon : US, 899125 [ P ]. 1978 - 04 - 24.
9闻瑞梅,戴自忠,梁骏吾,等.用三氯氢硅和四氯化硅混合源生产多晶硅的方法:中国,1403372[P].2005—10—12.
10William C O' Mara. Handbook of semiconductor silicon technology [ M ] New Jersey USA : Noyes Publications, 1990:5 - 6.

1杨涛.改良西门子法生产多晶硅工艺设计探讨[J].贵州化工,2009,34(3):7-11. 被引量：42
2宋东明,谢刚,俞小花,李荣兴,侯彦青.西门子法生产多晶硅过程中尾气的分离及综合利用[J].化学工业与工程,2010,27(6):551-555. 被引量：5
3周祥顺,王钟辉,胡小冬,王岭,黎展荣.多晶硅生产氯化氢回收工艺的模拟与优化[J].现代化工,2012,32(4):104-106. 被引量：4
4徐远志.高纯多晶硅在线制备技术及发展趋势[J].云南冶金,2012,41(3):75-79. 被引量：2
5谢刚,宋东明,林艳,崔焱,李荣兴.SiCl_4锌还原异相反应机理的研究[J].昆明理工大学学报（自然科学版）,2012,37(3):13-18. 被引量：1
6闫维东,王秀凤,马娟.改良西门子法生产多晶硅污染物排放调查[J].甘肃科技,2012,28(13):35-37. 被引量：2
7黄小明,杨邦美.高纯三氯氢硅生产中磷硼杂质的去除[J].化工生产与技术,2012,19(5):55-56. 被引量：7
8李春华,陈黎明.光纤用四氯化硅中金属杂质的检测方法[J].上海计量测试,2013,40(2):32-34. 被引量：2
9谢刚,侯彦青,宋东明,林艳,崔焱.SiCl_4-Zn体系硅化学气相沉积的化学机理[J].中国有色金属学报,2013,23(11):3260-3266. 被引量：1
10魏亚魁,张琳,孟坤,刘兴华.改良西门子法生产多晶硅工艺的物料平衡[J].广州化工,2018,46(23):141-142. 被引量：1

1张更生.超声波清洗于高精度PCB制造中的应用[J].印制电路信息,2012,20(8):21-23. 被引量：1
2蒋荣华,冯地直,饶家荣,肖顺珍,彭松文,丁国江,吴贤富.综合利用副产物SiCl_4氢还原生产多晶硅[J].新材料产业,2008(8):27-30. 被引量：8
3韦亚一.氢还原铅硅酸盐玻璃表面层结构的研究[J].电子科学学刊,1992,14(6):661-665. 被引量：2
4陈岚岚.无线传感器跨层路由机制设计分析[J].信息与电脑（理论版）,2012(9):41-42.
5陈叮琳,杨紫琪.多晶硅还原生产中常见问题[J].山东工业技术,2016(17). 被引量：1
6文雨水.高显色性灯用发光材料[J].液晶与显示,1990,10(Z1):23-25.
7刘元隆,陈立丰.三组份烧结型气敏元件的研制（Ⅱ）[J].南昌航空工业学院学报,1995,9(A01):78-81. 被引量：1
8曲珂,任翔宇.美军隐身飞机面临甚高频探测系统的威胁[J].国际电子战,2014,0(10):34-35.
9屈平,白木,周洁.多晶硅工艺线路比较[J].太阳能,2008(7):26-26. 被引量：1
10周兰林.多晶硅还原生产中变压器转档问题探讨[J].中国化工贸易,2013,5(10):133-133.

四川有色金属

1998年第3期

内容加载中请稍等...