期刊文献+

Si(100)面上3C-SiC的生长 被引量:6

在线阅读 下载PDF
导出
摘要 1000℃下用Si2H6和C2H4在Si(100)面上用气源分子束外延进行了SiC的生长,X射线双晶衍射和HREED表明外延层为3C-SiC单晶;俄歇电子谱分析其中的Si/C约为1.6.用No-marski光学显微镜观察,其表面存在类似四边形的缺陷;与不同温度,不同C2H4流量下Si衬底碳化形成的碳化层表面进行了比较,分析了缺陷形成的原因.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第7期630-632,共3页 半导体学报(英文版)
  • 相关文献

同被引文献33

  • 1张宁,龙海波,刘昊,才庆魁.碳化硅纳米粉体研究进展[J].无机盐工业,2007,39(3):1-4. 被引量:5
  • 2雷天民,陈治明,马剑平,余明斌.Si(111)碳化层中的SiC结晶[J].Journal of Semiconductors,1997,18(4):317-322. 被引量:7
  • 3叶志镇 等.-[J].半导体学报,1996,17(12):932-932.
  • 4Ha SY, Rohrer GS, De Graef M, et al. Origin of domain structure in hexagonal silicon carbide boules grown by the physical vapor transport method [J]. Journal of Crystal Growth, 2000, 220(3 ):8.
  • 5Wang Y S ,Li J M ,Zhang F F,et al. The effects of carbonized buffer layer on the growth of SiC on Si [J]. Journal of Crystal Growth , 1999,201/202:564.
  • 6Wang Y S , Li J M , Lin L Y, et al. Growth of SiC on Si substrateswith C2H4 and Si2H6 [J].Appl Surface Sci. , 1999,148:189.
  • 7Xie W,Appl Phys Lett,1996年,68卷,16期,2231页
  • 8Dong D,J Electrochem Soc,1978年,125卷,5期,819页
  • 9Sun G S,Luo M S,Wang L,et al.In situ doping of 3C-SiC grown on (0001) sapphiresubstrates by LPCVD.Mater Sci Forum,2002,389~393:339
  • 10Sun Guosheng,Wang Lei,Luo Muchang,et al.Improved epitaxy of 3C-SiC layers on Si(100) by a new CVD/LPCVD system.Chinese Journal of Semiconductors,2002,23:800

引证文献6

二级引证文献7

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部