脉冲激光蒸发制备高T_C超导薄膜及其应用

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摘要一、引言八十年代初开始了脉冲激光蒸发制备微电子器件所需的金属、元素和化合物半导体及绝缘介质膜的研究和应用,取得巨大进展。近年来随着高T_C氧化物超导体的发现。

作者宋登元

机构地区河北大学电子系

出处《国外激光》 CSCD 1991年第2期33-35,共3页

关键词超导薄膜脉冲激光工艺

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国外激光

1991年第2期

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