半导体湿化学设备技术及发展
出处
《电子工业专用设备》
2014年第7期49-51,54,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
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1光学纤维[J].电子科技文摘,2000(10):8-8.
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2殷子文,姚立新,张伟峰,曹秀芳,段成龙.湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用[J].电子工业专用设备,2016,45(12):3-6. 被引量:1
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3周小英.太阳能级硅片化学清洗技术进展[J].新余学院学报,2011,16(6):92-94. 被引量:3
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4湿化学方法制备微波介质双工滤波器用陶瓷材料[J].科技开发动态,2004(10):53-53.
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5杨成林,梁萍兰,问明亮,席珍强.氧化物对(111)锗片表面少子寿命的影响研究[J].浙江理工大学学报(自然科学版),2011,28(4):567-570. 被引量:1
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6羊亿,申德振,张吉英,杨宝均,范希武.量子点量子阱ZnS/HgS/ZnS/CdS的制备与光学特性[J].功能材料,2000,31(1):50-52. 被引量:1
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7彭江英,杨君友,虞华翔,刘小燕,朱文,黄建新.采用微波辅助湿化学法制备纳米Skutterudite材料的工艺研究[J].稀有金属材料与工程,2010,39(A01):515-519. 被引量:3
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8陈怡兰.微波辅助湿化学法制备纳米Bi2Te3/Bi2Se3[J].有色金属与稀土应用,2007,0(4):18-28.
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9陈怡兰.微波辅助湿化学法制备纳米Bi2Te3/Bi2Se3[J].有色金属与稀土应用,2007(3):24-31.
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10张剑,王豫,柳继锋,彭麟.简单湿化学方法制备ZnO压敏电阻的研究[J].广西师范大学学报(自然科学版),2002,20(3):19-22. 被引量:1
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