金刚石薄膜异质外延的研究状况与展望被引量：1

Review of Research and Development Work for Heteroepitaxial Diamond Films

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摘要综述了化学气相沉积异质外延金刚石薄膜机理及工艺的研究现状,分析了存在的问题,并对今后的研究进行了展望。 The progress in research on heteroepitaxial diamond films via chemical vapor deposition,including technology and mechanism,is reviewe-Current limitations and future development potential are also discussed.

作者王传新汪建华马志斌满卫东王升高

机构地区中国科学院等离子体物理研究所

出处《材料导报》 EI CAS CSCD 2002年第10期52-54,共3页 Materials Reports

关键词 CVD 半导体化学气相沉积外延生长金刚石薄膜异质外延 diamond films,heteroepitaxy,CVD

分类号 TN304.18 [电子电信—物理电子学] TN304.054 [电子电信—物理电子学]

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