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室温下用脉冲激光沉积E-BN薄膜

PULSED LASER DEPOSITION OF EXPLOSION BORON NITRIDE AT AMBIENT TEMPERATURE
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摘要 在利用等离子体增强脉冲激光沉积系统沉积立方氮化硼 (cBN)薄膜时 ,发现了氮化硼 (BN)材料的E BN相 ,并利用扫描电镜和红外吸收光谱及X射线衍射技术对薄膜样品进行了分析 ,得到了制备较高质量E BN薄膜的一些热力学参数及时间参数 ,验证了现有的E BN结构的形成理论。 In this study,explosion boron nitride (E-BN) was found in the process of depositing cubic boron nitride (cBN) thin film by Plasma Enhanced Pulsed Laser Deposition (PEPLD) method at room temperature.The E-BN thin film was identified using SEM,FTIR and X-ray diffraction techniques.The thermodynamic parameters and time parameter for preparing high-quality E-BN thin film were obtained. This has supported the existing formation theory of the structure of E-BN.
机构地区 湘潭大学物理系
出处 《高压物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期297-300,共4页 Chinese Journal of High Pressure Physics
基金 湖南省教育厅资助 (0 1C0 6 1)
关键词 室温 E-BN薄膜 脉冲激光沉积 扫描电镜 红外吸收光谱 X射线衍射 氮化硼 分子晶体 E-BN thin film pulsed laser deposition SEM FTIR spectra X-ray diffraction
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献1

  • 1S. S. Batsanov,G. E. Blokhina,A. A. Deribas. The effects of explosions on materials[J] 1965,Journal of Structural Chemistry(2):209~213

共引文献6

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