新一代半导体材料氧化镓单晶的制备和超精密加工技术

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摘要本文针对新一代半导体材料氧化镓单晶的制备和超精密加工技术进行研究。文章分析国内外氧化镓单晶制备与加工技术的发展现状,研究氧化镓单晶制备技术,包括氧化镓单晶基本性质、氧化镓单晶生长方法分类及原理,探究氧化镓单晶的超精密加工技术。通过研究发现:氧化镓单晶的超精密加工技术能实现高质量表面的制备,使加工精度达到纳米级,有效提高加工精度和质量。

作者杨胤萱

机构地区山东大学集成电路学院

出处《信息记录材料》 2024年第12期31-33,共3页 Information Recording Materials

关键词氧化镓单晶制备技术超精密加工技术

分类号 TN304 [电子电信—物理电子学]

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1张晋,胡壮壮,穆文祥,田旭升,冯倩,贾志泰,张进成,陶绪堂,郝跃.高质量氧化镓单晶及肖特基二极管的制备[J].人工晶体学报,2020,49(11):2194-2199. 被引量：4
2张兴旺,高孟磊,孟军华.介质衬底上生长h-BN二维原子晶体的研究进展[J].无机材料学报,2019,34(12):1245-1256. 被引量：3
3高崇,韦金汕,欧阳政,何敬晖,王增辉,卜予哲,赛青林,赵鹏.氧化镓单晶在酸碱条件下的腐蚀坑形貌研究[J].人工晶体学报,2023,52(12):2186-2195. 被引量：1
4高尚,李洪钢,康仁科,何宜伟,朱祥龙.新一代半导体材料氧化镓单晶的制备方法及其超精密加工技术研究进展[J].机械工程学报,2021,57(9):213-232. 被引量：15
5我国首颗15.24cm氧化镓单晶成功制备[J].有色金属材料与工程,2023,44(2):86-86. 被引量：1
6李志伟,唐慧丽,徐军,刘波.超宽禁带半导体氧化镓基X射线探测器的研究进展[J].人工晶体学报,2022,51(3):523-537. 被引量：2
7田龙,黄传真,刘盾,姚鹏,刘含莲,刘雪飞.激光辅助水射流微铣削单晶β-Ga_(2)O_(3)衬底的实验研究[J].中国机械工程,2023,34(13):1559-1567. 被引量：1
8蒋骞,张静,谢亮,孟军华,张兴旺.氧化镓薄膜外延生长及其应用研究进展[J].材料导报,2022,36(13):13-23. 被引量：1
9赵仁渔.煤矿机电设备智能诊断技术研究与应用[J].电力设备管理,2024(2):161-163. 被引量：1

二级参考文献33

1李转波.煤矿机电自动化技术的创新应用研究[J].中文科技期刊数据库（全文版）工程技术,2023(2):1-4. 被引量：1
2王涛,介万奇,徐亚东,查钢强,傅莉.Characterization of CdZnTe crystal grown by bottom-seeded Bridgman and Bridgman accelerated crucible rotation techniques[J].中国有色金属学会会刊：英文版,2009,19(S3):622-625. 被引量：2
3张俊刚,夏长泰,吴锋,裴广庆,徐军,邓群,徐悟生,史宏生.β-Ga_2O_3单晶浮区法生长及其光学性质[J].功能材料,2006,37(3):358-360. 被引量：9
4杨慎华,张志强,寇淑清.连杆预制裂纹槽激光加工工艺参数[J].哈尔滨工业大学学报,2009,41(1):126-129. 被引量：6
5王璐璐,夏长泰,赛青林,狄聚青,牟菲.光学浮区法生长Si∶β-Ga_2O_3单晶及其光谱研究[J].人工晶体学报,2013,42(4):607-610. 被引量：3
6江海河.激光加工技术应用的发展及展望[J].光电子技术与信息,2001,14(4):1-12. 被引量：55
7高翔,周海,张清,张圆.氧化镓衬底基片化学机械抛光的研究[J].机械设计与制造,2014(8):89-91. 被引量：3
8张小桃,谢建军,夏长泰,张晓欣,肖海林,赛青林,户慧玲.光学浮区法生长掺锡氧化镓单晶及性能研究[J].人工晶体学报,2015,44(9):2354-2358. 被引量：3
9吴庆辉,唐慧丽,苏良碧,罗平,钱小波,吴锋,徐军.光学浮区法生长掺锗氧化镓单晶及其性质研究[J].人工晶体学报,2016,45(6):1440-1444. 被引量：4
10徐世海,李晖,高飞,练小正,朱磊,陈阳.β-Ga_2O_3(100)面的CMP研究及优化[J].微纳电子技术,2017,54(3):208-212. 被引量：5

共引文献20

1杨京澳,张晓龙,彭家丽,潘思宁,任天令.CMOS X射线图像传感器研究综述[J].微纳电子与智能制造,2023,5(3):41-52.
2闫时雨,纪文涛,谢克强,袁晓磊.宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)单晶制备工艺研究进展[J].材料导报,2022,36(S01):102-107. 被引量：2
3夏芳芳,王发坤,胡海龙,许翔,李阳,翟天佑.二次谐波在二维材料结构表征中的应用[J].无机材料学报,2021,36(10):1022-1030. 被引量：1
4王新月,张胜男,霍晓青,周金杰,王健,程红娟.超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)相关研究进展[J].人工晶体学报,2021,50(11):1995-2012. 被引量：6
5任姗姗,付小倩,赵贺,王洪刚.Mg,N掺杂β-Ga_(2)O_(3)光电性质的第一性原理计算[J].人工晶体学报,2022,51(1):56-64. 被引量：1
6冉景杨,高灿灿,马奎,杨发顺.磁控溅射功率对β-Ga_(2)O_(3)薄膜特性的影响[J].原子与分子物理学报,2022,39(4):90-94. 被引量：2
7蒋网,周海,计健,任相璞,朱子岩.易解理氧化镓晶片的半固结研磨工艺[J].表面技术,2022,51(3):178-185. 被引量：1
8马振洪.机械制造工艺与精密加工技术研究[J].造纸装备及材料,2022,51(5):135-137. 被引量：1
9Xin YANG,Renke KANG,Shang GAO,Zihe WU,Xianglong ZHU.Subsurface damage pattern and formation mechanism of monocrystalline β-Ga_(2)O_(3) in grinding process[J].Frontiers of Mechanical Engineering,2022,17(2):117-127. 被引量：1
10周友海.半导体材料在柔性显示屏技术中的应用及展望[J].新潮电子,2023(2):50-52.

1李俊烨,曹欣锐,汤家旭,朱金宝.磁流变超精密加工硅晶圆片的力学特性及其质量控制[J].长春工业大学学报,2024,45(4):322-330.
2赵仕燕,郭海林,黄思玲,张旭,夏超翔,王大森,聂凤明,裴宁,李晓静.离子束抛光对单晶硅表面质量影响的分子动力学模拟研究[J].原子与分子物理学报,2025,42(6):113-121.

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