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金属氧化物薄膜晶体管电特性参数的提取
1
作者
陈文彬
何永阳
陈赞
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2018年第11期42-44,48,共4页
采用磁控溅射法制备了底栅反交叠刻蚀阻挡型(ES)金属氧化物薄膜晶体管(α-IGZO TFT),测试了TFT电流-电压特性曲线。根据TFT的一级近似模型,结合实验数据提出了TFT电特性参数提取方法。在TFT的线性区和饱和区采用线性拟合提取了TFT的场...
采用磁控溅射法制备了底栅反交叠刻蚀阻挡型(ES)金属氧化物薄膜晶体管(α-IGZO TFT),测试了TFT电流-电压特性曲线。根据TFT的一级近似模型,结合实验数据提出了TFT电特性参数提取方法。在TFT的线性区和饱和区采用线性拟合提取了TFT的场效应迁移率和阈值电压,定义了TFT的开态电流和关态电流,在TFT的亚阈值区分别采用线性拟合和一阶导数的方法提取了TFT的亚阈值摆幅。通过筛选测试条件和数据拟合范围,得到α-IGZO TFT线性区和饱和区场效应迁移率和阈值电压分别为6. 27 cm^2/V·s和7. 7 V;7. 24 cm^2/V·s和4. 3 V,α-IGZO TFT的开关比和亚阈值摆幅分别为109和272 m V/dec。
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关键词
金属氧化物薄膜晶体管
电特性参数
刻蚀阻挡型
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职称材料
题名
金属氧化物薄膜晶体管电特性参数的提取
1
作者
陈文彬
何永阳
陈赞
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2018年第11期42-44,48,共4页
基金
电子科技大学本科教学改革研究项目(Y0309402370101954)
文摘
采用磁控溅射法制备了底栅反交叠刻蚀阻挡型(ES)金属氧化物薄膜晶体管(α-IGZO TFT),测试了TFT电流-电压特性曲线。根据TFT的一级近似模型,结合实验数据提出了TFT电特性参数提取方法。在TFT的线性区和饱和区采用线性拟合提取了TFT的场效应迁移率和阈值电压,定义了TFT的开态电流和关态电流,在TFT的亚阈值区分别采用线性拟合和一阶导数的方法提取了TFT的亚阈值摆幅。通过筛选测试条件和数据拟合范围,得到α-IGZO TFT线性区和饱和区场效应迁移率和阈值电压分别为6. 27 cm^2/V·s和7. 7 V;7. 24 cm^2/V·s和4. 3 V,α-IGZO TFT的开关比和亚阈值摆幅分别为109和272 m V/dec。
关键词
金属氧化物薄膜晶体管
电特性参数
刻蚀阻挡型
Keywords
metal oxide thin film transistor
electrical parameters
etch stop (ES)
分类号
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
G482 [文化科学—教育技术学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属氧化物薄膜晶体管电特性参数的提取
陈文彬
何永阳
陈赞
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2018
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