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题名两种新型大功率LED封装电极层的比较
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作者
王耀明
王德苗
苏达
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机构
浙江大学信息科学与工程学院
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出处
《江南大学学报（自然科学版）》
CAS
2009年第3期300-304,共5页
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文摘
为了提高半导体发光二极管封装的可靠性与焊接性能,避开传统的电极层陶瓷/金属的机械性能匹配问题,设计了两种电极层的结构:一种是多层膜系结构,另一种是氧化铟锡(ITO)薄膜。研究发现:多层膜系结构的电阻率为3×10-6Ω.cm,平均抗拉强度为4.22 MPa,膜层表面缺陷较少,致密性好,焊接性能好;ITO薄膜在紫外辐照条件下制备样品的电阻率、表面形貌和生长取向明显优于未经紫外辐照的样品,在线紫外辐照下最低方阻为5Ω,电阻率为2.5×10-4Ω.cm,平均抗拉强度为5.3 MPa,表面缺陷少,致密度好,趋于[222]晶面的择优取向。多层膜系结构的电阻率明显优于ITO薄膜,但平均抗拉强度不如ITO薄膜。
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关键词
大功率LED
多层膜系结构
氧化铟锡薄膜
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Keywords
high-power LED, multi-layer structure, ITO thin-film
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分类号
TN312
[电子电信—物理电子学]
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题名基于高光谱成像芯片中布拉格反射镜的设计和制备
被引量：3
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作者
王天鹤
刘舒扬
张晨
贾晓东
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机构
天津津航技术物理研究所
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出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2019年第10期218-224,共7页
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基金
天津市自然科学基金青年项目(16JCQNJC02200)
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文摘
针对传统高光谱成像系统体积质量大、光机结构复杂、成本高等缺点,亟待微小型化的需求,开展高光谱成像芯片中布拉格反射镜设计和制备的研究,根据布拉格分布膜系理论开发的多层膜系结构的模拟器,并根据结构设计完成了5层和7层膜系布拉格反射镜的制作,利用可见/近红外分光光度计,对布拉格反射镜的反射率进行测量,与模拟器进行对比,由于布拉格镜的实际制备存在"瑕疵",导致误差≤3%,多层膜系结构模拟器可以指导实际布拉格反射镜的制备,为高光谱成像芯片化奠定基础。
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关键词
高光谱成像芯片
布拉格反射镜设计
法珀腔多光束干涉
多层膜系结构
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Keywords
hyperspectral imaging chip
DBR design
Faber-Pérot cavity multi-beam interference
multi-layer film structure
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分类号
TN204
[电子电信—物理电子学]
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