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纳米压印抗蚀剂变形行为的分子动力学计算
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作者 李世泽 魏正英 +2 位作者 杜军 唐一平 楚华丽 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期105-110,共6页
为了提高纳米压印的成型质量,采用粗粒化分子动力学方法,研究纳米压印中抗蚀剂的变形行为。计算模型包括线宽结构的硅模具,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物薄膜以及硅基板。模型的x,y方向采用周期性边界条件,z方向采用非周期性边界条件。... 为了提高纳米压印的成型质量,采用粗粒化分子动力学方法,研究纳米压印中抗蚀剂的变形行为。计算模型包括线宽结构的硅模具,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物薄膜以及硅基板。模型的x,y方向采用周期性边界条件,z方向采用非周期性边界条件。分析不同压印条件下,模具所需要的压印力及不同区域抗蚀剂密度的变化。结果表明,随着模具槽宽的增大,压印温度的上升,在下压过程中所需要的压印力逐渐减小;在脱模初始阶段,模具和抗蚀剂之间的相互作用力出现阶跃式的递减;下压阶段,抗蚀剂局部密度增加;脱模阶段,抗蚀剂出现回弹现象。 展开更多
关键词 纳米压印 粗粒化分子动力学 抗蚀剂变形行为
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