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硅中的氮氧复合物和碳氧复合物被引量：9: 1; 作者刘培东余思明 +2 位作者李立本张锦心阙端麟《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第11期698-703,共6页; 前文[1]指出,硅中的氮氧复合物实质上是氮对-硅-氧复合体.本文运用这一结构模型预测了新的实验事实,并用实验进行了验证,同时分析了硅中的碳氧复合物,提出了硅中碳与氧,氮与氧相互作用的新见解.; 关键词硅氮氧复合物碳氧复合物; 在线阅读下载PDF 职称材料

硅中的氮氧复合物及其施主行为被引量：4: 2; 作者刘培东张锦心 +1 位作者李立本阙端麟《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第12期1064-1070,共7页; 含氮ＣＺ硅的电学性能完全有别于含氮的ＦＺ硅和无氮的ＣＺ硅，研究表明，含氮ＣＺ硅能形成一种与氮有关的新施主，它随氮氧复合物的形成而形成，随氮氧复合物的消失而消失．文章进一步研究了氮—新施主的结构模型，并对氮—新施主的形... 展开更多; 关键词硅氮氧复合物施主行为电学性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

硅中的氮氧复合物及其施主行为: 3; 作者张锦心刘培东李立本《浙江大学学报（自然科学版）》 CSCD 2000年第6期660-664,共5页; 含氮 CZ硅的电学性能完全有别于含氮的 FZ硅和无氮的 CZ硅 .研究表明 ,含氮 CZ硅能形成一种与氮有关的新施主 ,它随氮氧复合物的形成而形成 ,随氮氧复合物的消失而消失 .文章进一步研究了氮 -新施主的形成和消除与热处理条件的关系。; 关键词氮-氧复合物氮-新施主 CZ硅半导体材料热处理; 在线阅读下载PDF 职称材料

直拉硅中氮与氧的相互作用被引量：1: 4; 作者刘培东李立本 +1 位作者阙端麟余思明《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 1995年第2期112-115,共4页; 应用红外光谱技术研究了ＣＺ硅中氮与氧的相互作用，实验发现硅中氮的行为不仅与热处理温度有关，而且与热处理时间、样品的热历史等因素有关，由此得出，硅中氮与氧的相互作用实际上分为三个阶段：（１）氮氧复合物的形成，（２）氮氧... 展开更多; 关键词氮氧复合物氧沉淀硅热处理; 在线阅读下载PDF 职称材料

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