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砷化镓集成电路技术的新进展——1998年IEEEGaAsIC国际会议 被引量:2
1
作者 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期353-356,共4页
关键词 砷化镓集成电路 光刻板 生产线 集成电路
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砷化镓集成电路应用前景展望
2
《新材料产业》 2001年第2期29-30,28,共3页
砷化镓集成电路(GaAs IC)近年来商业化空前火爆,其应用领域不断扩展。过去几年由于移动通信的发展,推动了GaAs IC的市场不断扩大。今天GaAs IC的应用又延伸到超高频领域(1.5GHz-83GHz)的应用范围。例如,自动雷达设备 (军用与民用)、卫... 砷化镓集成电路(GaAs IC)近年来商业化空前火爆,其应用领域不断扩展。过去几年由于移动通信的发展,推动了GaAs IC的市场不断扩大。今天GaAs IC的应用又延伸到超高频领域(1.5GHz-83GHz)的应用范围。例如,自动雷达设备 (军用与民用)、卫星通信技术、卫星电视技术、无线数据传输、光纤通信设备、自动测试设备和无线技术等等。此外,数字化多媒体技术的需要,更高的频带宽需求的增加也推动了GaAs IC市场的增长。举例说,实时视频MPEG2制式的压缩所需求的1.5Mbps和8Mbps(每秒兆比特)DVD的频率要求。 展开更多
关键词 砷化镓集成电路 自动测试 外延技术 应用
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砷污染环境风险概述——以某砷化镓单片微波集成电路(GaAsMMIC)项目为例
3
作者 田豫川 付豪 +1 位作者 姚金豆 唐纲 《区域治理》 2020年第16期150-151,共2页
本文以某砷化镓单片微波集成电路(GaAsMMIC)项目为例,对项目砷污染环境风险进行了概要分析论述,并提出了可行的砷污染风险防范措施。
关键词 单片微波集成电路 污染 环境风险
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半导体的巨星——砷化镓 被引量:1
4
作者 万群 《金属世界》 2001年第2期4-5,共2页
说起砷化镓来,可能有些人觉得生疏、有些人不知道它是半导体材料,如果说它早已经进入我们的家庭生活,那更是出乎意料的事。现在我们看电视、听音响、开空调都用遥控器。这些遥控器是通过砷化镓发出的红外光把指令传给主机的。另外在许... 说起砷化镓来,可能有些人觉得生疏、有些人不知道它是半导体材料,如果说它早已经进入我们的家庭生活,那更是出乎意料的事。现在我们看电视、听音响、开空调都用遥控器。这些遥控器是通过砷化镓发出的红外光把指令传给主机的。另外在许多家电上都有小的红色绿色的指示灯,它们是以砷化镓等材料为衬底做成的发光二极管。至于光盘和VCD。 展开更多
关键词 器件 太阳电池 高电子迁移率晶体管 发光二极管 合物半导体材料 材料 砷化镓集成电路 高效太阳电池 超高速集成电路 激光二极管
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用于手机砷化镓MMIC射频开关的研制 被引量:2
5
作者 蒋幼泉 陈继义 +5 位作者 李拂晓 高建峰 徐中仓 邵凯 陈效建 杨乃彬 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期326-328,共3页
报道一种用于手机的高功率、低插损砷化镓 MMIC射频开关。该产品在 870~ 970 MHz下 ,线性功率容量 >3 3 d Bm,插入损耗 (IL) <0 .6d B,隔离度 (Iso)≥ 1 7d B,反向三阶交调 (PT0 1 )≥ 70 d Bm,控制电压 :(0 ,-4) V。
关键词 手机 单片集成电路 双刀双掷开关 多栅场效应晶体管
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ANADIGICS在昆山投建6英寸砷化镓晶圆制造厂
6
《集成电路应用》 2007年第8期12-12,共1页
7月9日,ANADIGICS(安吉利)在昆山高新技术产业园区(KSND)为其最新一条6英寸砷化镓集成电路晶圆制造厂——安吉利半导体(昆山)有限公司举行了奠基动工仪式.这是我国首个引进的6英寸砷化镓晶圆制造项目.首期投资总额为4988万美元。
关键词 砷化镓集成电路 晶圆制造 制造厂 昆山 高新技术产业园区 投资总额 半导体 美元
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砷化镓计算机技术(二)
7
作者 王巧玉 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1991年第8期26-28,25,共4页
本文分析了GaAs 计算机设计中的几个问题,指出了整体化设计方法(Wholistic design)的光辉前景,并对砷化镓计算机技术的发展趋势作了预测.
关键词 计算机 高速缓存机理 砷化镓集成电路 制造工艺 整体设计方法
全文增补中
GaAs MMIC开关MESFET电路建模技术研究 被引量:5
8
作者 戴永胜 方大纲 《南京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期612-617,共6页
基于Agilent公司的IC-CAP软件及GaAs圆片工艺加工线,研究了砷化镓微波毫米波单片集成电路(GaAs M-MMIC)开关MESFET电路建模技术及其应用。讨论了MMIC设计中电路建模技术的重要性,提出了高精度GaAs MMIC开关MESFET简化电路模型及不同栅... 基于Agilent公司的IC-CAP软件及GaAs圆片工艺加工线,研究了砷化镓微波毫米波单片集成电路(GaAs M-MMIC)开关MESFET电路建模技术及其应用。讨论了MMIC设计中电路建模技术的重要性,提出了高精度GaAs MMIC开关MESFET简化电路模型及不同栅宽模型参数的比例缩放方案,扩展了电路模型的应用频率范围,解决了电路模型参教提取中的关键问题,如:开关MESFET模型的版图设计、微波探针校准图形的设计、电路模型参数的提取、统计和确认。采用该技术提取的电路模型参数,成功研制出GaAs MMIC控制电路系列产品,验证了该方法的有效性。 展开更多
关键词 微波单片集成电路 开关场效应晶体管模型 电路模型参数 微波控制电路 多倍频程
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S波段接收通道的小型化研究 被引量:2
9
作者 王元佳 要志宏 +1 位作者 王乔楠 高长征 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期347-352,共6页
基于Ga As单片集成电路工艺,对接收通道的关键元器件低噪声放大器和电调衰减器进行了芯片化设计。采用基于多层高温共烧陶瓷埋线工艺设计的金属化陶瓷外壳,对接收通道进行了微组装。测试结果表明,该S波段接收通道接收动态范围大于60 d B... 基于Ga As单片集成电路工艺,对接收通道的关键元器件低噪声放大器和电调衰减器进行了芯片化设计。采用基于多层高温共烧陶瓷埋线工艺设计的金属化陶瓷外壳,对接收通道进行了微组装。测试结果表明,该S波段接收通道接收动态范围大于60 d B,增益大于95 d B,噪声系数小于1.3 d B,本振抑制大于30 d Bc,中频信号的谐波抑制大于30 d Bc。当中频自动增益控制电路起控时,接收通道输出功率稳定在(2±0.5)d Bm。该接收通道采用+5 V供电,工作电流小于250 m A。整个接收通道的尺寸仅为20 mm×13.8 mm×5.75 mm,其性能优异且集成度非常高,小型化优势非常明显。 展开更多
关键词 单片集成电路 接收通道 多层高温共烧陶瓷埋线 微组装 小型
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砷化镓——第三代半导体材料
10
作者 伍钢柱 《中学化学教学参考》 1998年第Z2期126-126,共1页
砷化镓,化学式GaAs,一种重要的化合物半导体材料,它是用镓和砷在高温和一定的砷蒸气压下人工合成的晶体。60年代中期,砷化镓就已开始崭露头角,可以满足高频率、大功率的要求,并且能在比较高的温度环境里工作,它是目前做半... 砷化镓,化学式GaAs,一种重要的化合物半导体材料,它是用镓和砷在高温和一定的砷蒸气压下人工合成的晶体。60年代中期,砷化镓就已开始崭露头角,可以满足高频率、大功率的要求,并且能在比较高的温度环境里工作,它是目前做半导体光源最合适、最有发展前途的材料... 展开更多
关键词 激光器 太阳能电池 半导体光源 合物半导体材料 硅微波器件 发光二极管 硅半导体 半导体器件 砷化镓集成电路 激光器件
原文传递
GaAsICCAD方法
11
作者 邓先灿 《电子科技导报》 1996年第9期23-28,共6页
本文重点论述GaAsICCAD方法,包括:精确的GaAsMESFET、HEMT和HBT等有源器件模型;大、小信号模型参数提取;噪声模型;成品优化;高频、高速微带传输线模型;电路模拟与优化;砷化镓门阵等。还评述了GaA... 本文重点论述GaAsICCAD方法,包括:精确的GaAsMESFET、HEMT和HBT等有源器件模型;大、小信号模型参数提取;噪声模型;成品优化;高频、高速微带传输线模型;电路模拟与优化;砷化镓门阵等。还评述了GaAsICCAD集成软件包及进一步工作。 展开更多
关键词 砷化镓集成电路 CAD 集成电路
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一种新颖的DC~50GHz低插入相移MMIC可变衰减器 被引量:5
12
作者 戴永胜 陈堂胜 +5 位作者 俞土法 刘琳 杨立杰 陈继义 陈效建 林金庭 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期186-188,共3页
介绍了一种新颖的 DC~ 5 0 GHz低相移、多功能的 Ga As MMIC可变衰减器的设计与制作 ,获得了优异的电性能。微波探针在片测试结果为 :在 DC~ 5 0 GHz频带内 ,最小衰减≤ 3 .8d B,最大衰减≥ 3 5± 5 d B,最小衰减时输入 /输出驻波... 介绍了一种新颖的 DC~ 5 0 GHz低相移、多功能的 Ga As MMIC可变衰减器的设计与制作 ,获得了优异的电性能。微波探针在片测试结果为 :在 DC~ 5 0 GHz频带内 ,最小衰减≤ 3 .8d B,最大衰减≥ 3 5± 5 d B,最小衰减时输入 /输出驻波≤ 1 .5 ,最大衰减时输入 /输出驻波≤ 2 .2 ,衰减相移比≤ 1 .2°/d B。芯片尺寸 2 .3 3 mm× 0 .68mm× 0 .1 mm。芯片成品率高达 80 %以上 ,工作环境温度达 1 2 5°C,可靠性高 。 展开更多
关键词 微波单片集成电路 超宽带 低相移 可变衰减器 GAAS MMIC
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反馈式宽带MMIC放大器的设计与实现 被引量:5
13
作者 刘文杰 刘志军 高学邦 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期807-810,共4页
介绍了用Agilent ADS软件设计的一种反馈式GaAs MMIC宽带放大器。采用单级GaAs微波场效应管,电路结构上通过并联负反馈的形式增加带宽,可以覆盖2~18GHz频带,增益大于6dB,输入输出驻波比3∶1;采用5~8V单电源供电,电流35mA,芯片面积1.5m... 介绍了用Agilent ADS软件设计的一种反馈式GaAs MMIC宽带放大器。采用单级GaAs微波场效应管,电路结构上通过并联负反馈的形式增加带宽,可以覆盖2~18GHz频带,增益大于6dB,输入输出驻波比3∶1;采用5~8V单电源供电,电流35mA,芯片面积1.5mm×1.5mm×0.1mm。具有面积小,使用方便的特点,可以用来补充通道增益,也可以多级级联,用于增益需求比较高的场合,可广泛应用于各种微波系统。 展开更多
关键词 宽带放大器 微波单片集成电路 场效应管 反馈 单电源
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S波段平衡式限幅MMIC低噪声放大器设计 被引量:3
14
作者 孔令甲 要志宏 +1 位作者 高长征 陈书宾 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第10期749-753,共5页
结合混合微波集成电路(HMIC)工艺和砷化镓单片微波集成电路(MMIC)工艺各自优势,设计制作了一款小型化大功率S波段平衡式限幅MMIC低噪声放大器。采用平衡式结构,提高了限幅功率容量和可靠性。由于金丝键合线的等效电感具有更高Q值,... 结合混合微波集成电路(HMIC)工艺和砷化镓单片微波集成电路(MMIC)工艺各自优势,设计制作了一款小型化大功率S波段平衡式限幅MMIC低噪声放大器。采用平衡式结构,提高了限幅功率容量和可靠性。由于金丝键合线的等效电感具有更高Q值,低噪声放大器单片的输入匹配采用外部金丝键合线匹配,有效降低了低噪声放大器单片的噪声系数。限幅器采用混合集成工艺制成,能够耐受较大功率。利用微波仿真软件,设计制作了兰格(Lange)电桥、限幅电路和低噪声放大器输入匹配等电路。最终产品尺寸仅为22 mm×16 mm×6 mm,在2.7~3.5 GHz内增益27~28 d B,噪声系数小于1.3 d B,驻波比小于1.3,该平衡限幅MMIC低噪声放大器可承受功率超过200 W、占空比为15%的脉冲功率冲击。 展开更多
关键词 单片集成电路 低噪声放大器 混合微波集成限幅器 外部匹配 平衡式结构 大功率
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宽带GaAs MMIC开关耦合器芯片设计 被引量:1
15
作者 刘文杰 吴洪江 高学邦 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第8期498-501,共4页
介绍了一种宽带开关耦合器芯片的研制。在GaAspHEMT工艺平台上将宽带单刀双掷开关和兰格耦合器集成在一个芯片上,在实现二路功率分配功能的同时,还提供了在两个输出端口之间±90°相位切换的功能。该芯片频率范围覆盖6~18GH... 介绍了一种宽带开关耦合器芯片的研制。在GaAspHEMT工艺平台上将宽带单刀双掷开关和兰格耦合器集成在一个芯片上,在实现二路功率分配功能的同时,还提供了在两个输出端口之间±90°相位切换的功能。该芯片频率范围覆盖6~18GHz,在整个频带内插入损耗〈3.7dB,相位误差〈14°,输入输出驻波比〈1.8:1。芯片尺寸1.5mm×3.0mm×0.1mm。详细描述了电路的设计流程,并提供最终的测试结果。该芯片具有频带宽、体积小、使用方便等特点,可应用于不同的微波系统。 展开更多
关键词 宽带 微波单片集成电路 PHEMT 微波开关 兰格耦合器
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超低功耗Q波段低噪声放大器芯片的设计和实现
16
作者 方园 叶显武 +1 位作者 吴洪江 刘永强 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期167-170,210,共5页
采用GaAs赝配HEMT单片微波集成电路(MMIC)工艺和堆栈偏置技术设计实现了一款Q波段低噪声放大器(LNA)芯片。该放大器采用4级级联的堆栈偏置拓扑结构,前两级电路在确保较低输入回波损耗的同时优化了放大器的噪声系数,后两级电路则采... 采用GaAs赝配HEMT单片微波集成电路(MMIC)工艺和堆栈偏置技术设计实现了一款Q波段低噪声放大器(LNA)芯片。该放大器采用4级级联的堆栈偏置拓扑结构,前两级电路在确保较低输入回波损耗的同时优化了放大器的噪声系数,后两级电路则采用最大增益的匹配方式,确保放大器具有良好的增益平坦度和较小的输出回波损耗。该LNA芯片最终尺寸为3250μm×1500μm,实测结果表明在40~46 GHz工作频率内放大器工作稳定,小信号增益大于23 dB,噪声系数小于3.0 dB,在4.5 V工作电压下消耗电流约6 mA。此外,在片实测结果和设计结果符合良好。 展开更多
关键词 超低功耗 堆栈偏置 Q波段 单片微波集成电路(GaAs MMIC) 低噪声放大器(LNA)
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一种新颖的DC-50GHz低插入相移MMIC可变衰减器
17
作者 戴永胜 陈堂胜 +5 位作者 俞土法 刘琳 杨立杰 陈继义 陈效建 林金庭 《电子元器件应用》 2002年第2期16-18,共3页
介绍了一种新颖的DC-50GHz低相移、多功能的GaAs MMIC可变衰减器的设计与制作,获得了优异的电性能.微波探针在片测试结果为:在DC-50GHz频带内,最小衰减≤3.8dB,最大衰减≥35±5dB,最小衰减时输入/输出驻波≤1.5,最大衰减时输入/输... 介绍了一种新颖的DC-50GHz低相移、多功能的GaAs MMIC可变衰减器的设计与制作,获得了优异的电性能.微波探针在片测试结果为:在DC-50GHz频带内,最小衰减≤3.8dB,最大衰减≥35±5dB,最小衰减时输入/输出驻波≤1.5,最大衰减时输入/输出驻波≤2.2,衰减相移比≤1.2°/dB.芯片尺寸为2.33mm×0.68mm×0.1mm.芯片成品率高达80%以上,工作环境温度达125℃,可靠性高,稳定性好. 展开更多
关键词 微波单片集成电路 超宽带 相移 多功能 可变衰减器 成品率 可靠性
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中联国际(天津)开发区奠基
18
作者 美通 《邮电设计技术》 2005年第11期56-56,共1页
天津经济技术开发区宣布,天津开发区与森邦集团合作的大规模集成电路生产厂与研发中心奠基仪式日前在天津开发区西区举行。根据投资计划,在未来的5年.该公司将在开发区西区建设8英寸、12英寸芯片生产厂.砷化镓集成电路生产厂及相关... 天津经济技术开发区宣布,天津开发区与森邦集团合作的大规模集成电路生产厂与研发中心奠基仪式日前在天津开发区西区举行。根据投资计划,在未来的5年.该公司将在开发区西区建设8英寸、12英寸芯片生产厂.砷化镓集成电路生产厂及相关产品的技术研发中心.总投资额将超过25亿美元。中联国际(天津)电子有限公司的外方由美国旧金山硅谷的几家大规模集成电路生产与研发公司组成。 展开更多
关键词 天津经济技术开发区 国际 大规模集成电路 砷化镓集成电路 天津开发区 研发中心 集成电路生产 有限公司 生产厂 投资计划
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AWSC选择Mentor Graphics Calibre纳米验证平台
19
《中国集成电路》 2013年第10期8-9,共2页
Mentor Graphics公司日前宣布,宏捷科技股份有限公司(AWSC)已经选择Calibre nmDRCTM和nmLVSTM产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的一部分,AWSC将为客户提供Calibr... Mentor Graphics公司日前宣布,宏捷科技股份有限公司(AWSC)已经选择Calibre nmDRCTM和nmLVSTM产品作为其针对手机和其他无线应用中砷化镓集成电路的金级核签物理验证解决方案。作为其提供的代工服务的一部分,AWSC将为客户提供Calibre设计规则检查,以帮助他们确保在交付AWSC投产之前,他们的设计是无瑕疵并满足所有生产要求的。 展开更多
关键词 GRAPHICS 验证平台 设计规则检查 砷化镓集成电路 纳米 物理验证 无线应用 客户
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超宽带延时幅相控制多功能芯片的设计 被引量:2
20
作者 陈月盈 朱思成 赵子润 《微波学报》 CSCD 北大核心 2018年第1期84-88,共5页
针对航空航天和卫星通信等设备的需求,介绍了一款超宽带延时幅相控制多功能芯片。该芯片集成了数字和微波电路,有T/R开关、5位数控延时器(10 ps步进TTD)、5位数控衰减器(1 d B步进ATT)、2个行波放大器、均衡器及数字电路。基于GaAs ... 针对航空航天和卫星通信等设备的需求,介绍了一款超宽带延时幅相控制多功能芯片。该芯片集成了数字和微波电路,有T/R开关、5位数控延时器(10 ps步进TTD)、5位数控衰减器(1 d B步进ATT)、2个行波放大器、均衡器及数字电路。基于GaAs E/D PHEMT工艺研制出了芯片实物,芯片尺寸为4.5 mm×5.0 mm×0.07 mm。采用微波在片测试系统对该幅相控制多功能芯片进行了实际测试,在3~17 GHz频段内实现了10~310 ps延时范围,1~31 d B衰减范围。测试结果显示,发射/接收增益大于2 d B,发射1 d B压缩输出功率P1 d B_Tx大于12 d Bm,接收1 d B压缩输出功率P1 d B_Rx大于10 d Bm,全态输入输出驻波均小于1.7,+5 V下工作电流130 m A,-5 V下工作电流12 m A。衰减器全态RMS精度小于1.4 d B,全态附加调相小于±8°。延时器全态RMS精度小于3 ps,全态附加调幅小于±1d B。 展开更多
关键词 超宽带 单片集成电路 多功能芯片 实时延时器 数控衰减器
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