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9Cr18轴承钢表面不同等离子体浸没离子注入强化处理技术研究 被引量:5
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作者 刘洪喜 汤宝寅 +3 位作者 王小峰 王浪平 于永澔 孙韬 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期167-171,共5页
采用不同的等离子体浸没离子注入 (PIII)工艺在 9Cr18轴承钢表面进行了气体、金属、金属加气体的离子注入和碳化钛 (TiC)、类金刚石 (DLC)薄膜的等离子体浸没离子注入与沉积 (PIIID)。对处理后的试样进行了X射线光电子能谱 (XPS)、X射... 采用不同的等离子体浸没离子注入 (PIII)工艺在 9Cr18轴承钢表面进行了气体、金属、金属加气体的离子注入和碳化钛 (TiC)、类金刚石 (DLC)薄膜的等离子体浸没离子注入与沉积 (PIIID)。对处理后的试样进行了X射线光电子能谱 (XPS)、X射线衍射 (XRD)、俄歇电子能谱 (AES)和拉曼光谱 (Raman)分析 ;测试了处理前后试样的显微硬度、磨痕宽度和摩擦系数。结果表明 :处理后试样表面均形成了不同的改性层 ,且改性层中化学组成和各元素的浓度 深度分布随处理工艺的不同而变化 ;处理后试样的显微硬度都有较大提高 ,最大增幅达 77.7% ;表面摩擦系数由 0 .8下降到0 .16 ;磨痕宽度减少了 2 3倍 ;与PIII工艺相比 ,相同参数下 ,PIIID处理后的试样表面综合性能更加优异。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入(PⅢ) 等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢD) 9Cr18轴承钢 摩擦磨损性能
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等离子体浸没离子注入与沉积合成TiN薄膜的滚动接触疲劳寿命和机械性能 被引量:11
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作者 刘洪喜 蒋业华 +3 位作者 周荣 周荣锋 金青林 汤宝寅 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期325-330,共6页
采用等离子体浸没离子注入与沉积(PIII&D)技术在AISI 52100轴承钢表面合成了高硬耐磨的TiN薄膜.膜层元素分布、化学组成和表面形貌分别用XRD,XPS表征.合成薄膜前后试样的滚动接触疲劳寿命和摩擦磨损性能分别由球棒疲劳磨损试验机和... 采用等离子体浸没离子注入与沉积(PIII&D)技术在AISI 52100轴承钢表面合成了高硬耐磨的TiN薄膜.膜层元素分布、化学组成和表面形貌分别用XRD,XPS表征.合成薄膜前后试样的滚动接触疲劳寿命和摩擦磨损性能分别由球棒疲劳磨损试验机和球-盘磨损试验机测定;疲劳破坏后的微观形貌通过SEM观察;薄膜力学性能经纳米压痕和纳米划痕实验评价.结果表明,TiN膜中还含有少量的TiO_2和Ti,N,O的化台物.在优化条件下,TiN膜层致密均匀,与基体结合良好,纳米硬度和弹性模量分别达到25和350 GPa;最低摩擦系数由基体的0.92下降到0.2.被处理薄膜试件在90%置信区间下的最大L_(10),L_(50),L_a和(?)寿命较基体分别提高了约4.5,1.8,1.3和1.2倍,疲劳寿命的分散性得到了显著改善. 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入与沉积 TIN薄膜 机械性能 滚动接触疲劳寿命 轴承钢
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等离子体浸没离子注入(PIII)过程中初始离子阵鞘层尺度内各物理量的时空演化 被引量:10
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作者 黄永宪 田修波 +3 位作者 杨士勤 黄志俊 Ricky Fu Paul K.Chu 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期115-119,共5页
等离子体浸没离子注入(PIII)是用于材料表面改性的一种较新的、廉价的、非视线的技术。靶体被浸没在等离子体中,等离子体中的离子在靶体负脉冲偏压的作用下注入靶体而实现材料的表面改性。为了描述等离子体浸没离子注入过程,我们引用了... 等离子体浸没离子注入(PIII)是用于材料表面改性的一种较新的、廉价的、非视线的技术。靶体被浸没在等离子体中,等离子体中的离子在靶体负脉冲偏压的作用下注入靶体而实现材料的表面改性。为了描述等离子体浸没离子注入过程,我们引用了一维粒子模型(PIC)对其进行了数值模拟,该模型通过求解空间电势的Poisson方程,电子的Bolzmann分布以及离子在网格中受力运动的Newton运动方程来完成。本文重点研究了一个初始离子阵鞘层内电势、离子浓度、离子注入靶体的速度和动能以及离子流密度的时空演化规律。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 离子注人 鞘层 子阵 PⅢ 物理量 Poisson方程 材料表面改性 Newton 时空演化规律 离子流密度 脉冲偏压 数值模拟 粒子模型 求解空间 运动方程 离子浓度 靶体 电势 一维 电子 动能
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等离子体浸没离子注入的二维元胞粒子法计算机模拟与剂量分布研究 被引量:11
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作者 吴志玮 丁可 +2 位作者 顾昌鑫 孙琦 单莉英 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期303-307,共5页
采用二维元胞粒子模型(PIC),模拟了一个完整脉冲时段内,等离子体浸没离子注入平板靶的过程。重点研究了等离子体鞘层的时空演化规律,以及入射离子流密度、入射离子角度与能量的分布,由此得到了注入离子剂量在靶表面的分布。模型结果表明... 采用二维元胞粒子模型(PIC),模拟了一个完整脉冲时段内,等离子体浸没离子注入平板靶的过程。重点研究了等离子体鞘层的时空演化规律,以及入射离子流密度、入射离子角度与能量的分布,由此得到了注入离子剂量在靶表面的分布。模型结果表明:等离子体鞘层的扩展先快后慢,且形状由椭圆柱形向圆柱形演化,对靶的保形性逐渐变差;注入离子剂量在靶表面的分布不均匀,在边角附近出现峰值;同时,在得到的入射离子信息基础上,对注入离子在改性层中的浓度深度分布研究表明,在靶的不同位置注入的离子在改性层中的浓度深度分布有显著差别,在靶边角处,注入离子的保留剂量很低,投影射程浅,浓度深度分布展宽较窄。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 二维元胞粒子模拟 平面靶 剂量分布 浓度深度分布
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金属等离子体浸没离子注入与沉积技术合成类金刚石薄膜研究 被引量:5
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作者 刘洪喜 汤宝寅 +3 位作者 王浪平 王小峰 于永澔 孙韬 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期372-376,共5页
采用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术在 9Cr18轴承钢基体表面合成了类金刚石薄膜。研究了注入脉宽和工作气压对合成薄膜性能及化学组成的影响 ;通过激光Raman光谱、维氏硬度、针盘试验和电化学腐蚀等测试手段分别表征了合成薄膜后... 采用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术在 9Cr18轴承钢基体表面合成了类金刚石薄膜。研究了注入脉宽和工作气压对合成薄膜性能及化学组成的影响 ;通过激光Raman光谱、维氏硬度、针盘试验和电化学腐蚀等测试手段分别表征了合成薄膜后试样表面的化学组成和微观结构、显微硬度、摩擦磨损性能和抗腐蚀性能。结果表明 :合成薄膜后 ,试样的显微硬度增大了 88 7% ,摩擦磨损和抗腐蚀性能也明显改善。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 沉积技术 金属 显微硬度 维氏硬度 钢基体 表面 类金刚石薄膜 合成 RAMAN光谱
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表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响 被引量:8
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作者 曾照明 汤宝寅 +4 位作者 王松雁 田修波 刘爱国 王小峰 朱箭豪 《计算物理》 CSCD 北大核心 2000年第4期449-454,共6页
利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入 (PⅢ )中 ,具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况 ,计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化 ,获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况 ,为... 利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入 (PⅢ )中 ,具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况 ,计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化 ,获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况 ,为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 鞘层 表面凹陷 均匀性
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等离子体浸没离子注入及表面强化工艺的进展 被引量:7
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作者 汤宝寅 王松雁 +5 位作者 刘爱国 曾照明 田修波 王小峰 王浪平 PaulKChu 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1999年第S1期181-185,192,共6页
等离子体浸没离子注入 (PIII)消除了传统束线离子注入 (IBII)固有的视线限制 ,是一种更适合于处理复杂形状工件的手段 .近十年来 ,PIII及其工业应用在国内外得到了迅速发展 .然而 ,随着PIII的研究与开发的深入 ,发现仍有若干重要的物理... 等离子体浸没离子注入 (PIII)消除了传统束线离子注入 (IBII)固有的视线限制 ,是一种更适合于处理复杂形状工件的手段 .近十年来 ,PIII及其工业应用在国内外得到了迅速发展 .然而 ,随着PIII的研究与开发的深入 ,发现仍有若干重要的物理与技术问题 ,诸如浅的注入层、离子注入不均匀性、气体 (氮 )等离子体的有限应用范围等等 ,阻碍了PIII工业应用的发展 .目前 ,这些问题已成为国内外学者关注的焦点 .我实验室近年来在注入过程鞘层动力学的计算机理论模拟、离子注入剂量不均匀性改善、圆筒内表面注入研究、新型长射程阴极弧金属等离子体源研制、气体及金属等离子体的综合性表面改性工艺研究、以及低能高温PIII新工艺研究等方面进行了研究工作 . 展开更多
关键词 离子注入 等离子体浸没离子注入 表面改性
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空间飞轮轴承等离子体浸没离子注入氮层性能研究 被引量:5
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作者 李兆光 张人佶 +1 位作者 杨宇 王浪平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期326-329,共4页
研究了氮等离子体浸没离子注入(PIII)技术处理后空间飞轮轴承内圈的摩擦学性能。通过原子力显微镜分析改性前后试样表面形貌,利用X射线电子能谱分析试样表面成分及结构,通过显微硬度计测量改性前后及不同注入时间下试样表面硬度,考察改... 研究了氮等离子体浸没离子注入(PIII)技术处理后空间飞轮轴承内圈的摩擦学性能。通过原子力显微镜分析改性前后试样表面形貌,利用X射线电子能谱分析试样表面成分及结构,通过显微硬度计测量改性前后及不同注入时间下试样表面硬度,考察改性前后试样摩擦系数变化情况。结果表明,空间飞轮轴承内圈进行表面注氮后,表面形成Cr-N化合物,形成第二相及固溶强化使得试样表面硬度显著增加,摩擦系数明显减小,耐磨性增加,轴承组件工作电流明显减小。 展开更多
关键词 空间飞轮 等离子体浸没离子注入 注入时间 摩擦系数
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等离子体浸没离子注入与沉积技术的发展及前沿问题 被引量:6
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作者 王浪平 王小峰 汤宝寅 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期9-14,共6页
等离子体浸没离子注入与沉积技术可实现复杂形状零件表面垂直、均匀地离子注入与沉积处理,在材料表面改性领域具有广泛的应用前景。在技术发明后的20年间,该技术得到了快速的发展,但是也遇到了如何提高离子注入效率和注入均匀性、内表... 等离子体浸没离子注入与沉积技术可实现复杂形状零件表面垂直、均匀地离子注入与沉积处理,在材料表面改性领域具有广泛的应用前景。在技术发明后的20年间,该技术得到了快速的发展,但是也遇到了如何提高离子注入效率和注入均匀性、内表面注入、大面积注入等一系列问题。若上述问题得到解决,将极大的推进等离子体浸没离子注入与沉积技术的工业应用进程。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入与沉积 表面改性 发展
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等离子体浸没离子注入技术与设备研究 被引量:2
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作者 刘杰 汪明刚 +2 位作者 杨威风 李超波 夏洋 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第7期626-629,共4页
基于传统束线离子注入在制造器件源漏超浅结时面临的挑战,介绍了一种新的超浅结的制造方法——等离子体浸没离子注入技术,总结了该技术在制造超浅结时的优点,阐述了放电方式、线圈结构、偏压电源等系统核心部件的设计,自行设计并搭建了... 基于传统束线离子注入在制造器件源漏超浅结时面临的挑战,介绍了一种新的超浅结的制造方法——等离子体浸没离子注入技术,总结了该技术在制造超浅结时的优点,阐述了放电方式、线圈结构、偏压电源等系统核心部件的设计,自行设计并搭建了等离子体浸没离子注入系统。采用ESPion高级朗缪尔探针测试和计算流体力学模拟方法对比研究了等离子体的特性,结果显示,在一定功率范围内等离子体密度随放电功率增加类似线性地增加;采用二次离子质谱仪对B和P的注入样片进行深度剖析,给出了偏压为-500V时B和P的注入深度分布曲线,表明注入时间既影响注入剂量,又影响峰值的位置和注入深度。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 超浅结 感应耦合 线圈结构 脉冲偏压电源
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铀表面等离子体浸没离子注入沉积制备氮化层+Ti/TiN多层膜的结构与性能 被引量:2
11
作者 黄河 白彬 +3 位作者 赖新春 刘天伟 严东旭 龙重 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期64-66,共3页
为了改善金属铀的摩擦磨损和抗腐蚀性能,采用等离子体浸没离子注入沉积(PIII&D)技术在铀表面氮化,再沉积Ti/TiN多层膜。利用扫描电镜和X射线衍射分析了薄膜的形貌和组织结构;对薄膜的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能进行了测试。结果表明... 为了改善金属铀的摩擦磨损和抗腐蚀性能,采用等离子体浸没离子注入沉积(PIII&D)技术在铀表面氮化,再沉积Ti/TiN多层膜。利用扫描电镜和X射线衍射分析了薄膜的形貌和组织结构;对薄膜的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能进行了测试。结果表明:薄膜表面致密,界面晶粒柱状生长方式被阻断,晶粒细化;薄膜为Ti和TiN的双相结构,衍射谱中出现了UO2和U2N3的衍射峰;薄膜大大提高了铀基体的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能,调制周期对薄膜性能的影响较大。 展开更多
关键词 氮化 Ti/TiN多层膜 等离子体浸没离子注入沉积 性能
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离子成分比对等离子体浸没离子注入圆柱形介质管内表面鞘层演化特性的影响 被引量:2
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作者 田立成 石红 +1 位作者 李雪春 张天平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期331-336,共6页
采用一维和双离子自洽流体模型研究了等离子体浸没离子注入圆柱形聚对苯=甲酸乙=醇酯介质内表面的离子鞘层动力学。在模型中,考虑工作气体为氮气时离子成分为氮原子离子N+和分子离子N2+。计算结果表明,不同的离子成分比具有不同的鞘层... 采用一维和双离子自洽流体模型研究了等离子体浸没离子注入圆柱形聚对苯=甲酸乙=醇酯介质内表面的离子鞘层动力学。在模型中,考虑工作气体为氮气时离子成分为氮原子离子N+和分子离子N2+。计算结果表明,不同的离子成分比具有不同的鞘层演化特性,氮原子离子含量高会导致严重的充电效应。在实际工艺中,可通过调整相关参数以降低原子离子N+的成分以抑制充电效应。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 离子成分比 充电效应
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等离子体浸没离子注入与沉积合成碳化钛薄膜的摩擦磨损性能研究 被引量:1
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作者 刘洪喜 汤宝寅 +4 位作者 王小峰 王浪平 于永泊告 王宇航 孙韬 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期493-497,共5页
将等离子体浸没离子注入与沉积及射频辉光放电技术相结合,在GCr15轴承钢基体表面制备了碳化钛薄膜,考察了注入脉冲宽度和工作气体压力对薄膜性能和化学组成的影响;利用X射线衍射仪(XRD)、维氏硬度计、多功能摩擦磨损试验机和电化学腐蚀... 将等离子体浸没离子注入与沉积及射频辉光放电技术相结合,在GCr15轴承钢基体表面制备了碳化钛薄膜,考察了注入脉冲宽度和工作气体压力对薄膜性能和化学组成的影响;利用X射线衍射仪(XRD)、维氏硬度计、多功能摩擦磨损试验机和电化学腐蚀试验装置表征了薄膜试样的相组成、显微硬度、摩擦磨损性能和抗腐蚀性能.结果表明,注入脉冲宽度和工作气体压力对薄膜性能及其组成具有显著影响;GCr15钢经改性处理后抗磨性能和抗腐蚀性能显著改善.这是由于基体表面形成了硬质且致密的TiC薄膜改性层所致. 展开更多
关键词 轴承钢 等离子体浸没离子注入与沉积 碳化钛薄膜 摩擦磨损性能
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等离子体浸没离子注入改善45钢的摩擦学性能 被引量:1
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作者 刘洪喜 汤宝寅 +3 位作者 王浪平 王小峰 于永澔 孙韬 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期83-86,共4页
采用灯丝放电和射频 (RF)辉光放电等离子体浸没离子注入 (PIII)工艺对 4 5钢表面进行了氮离子注入强化处理。通过X射线光电子能谱 (XPS)、扫描电子显微镜 (SEM)、显微硬度、针 -盘磨损和电化学腐蚀试验等测试手段 ,分析比较了经灯丝放电... 采用灯丝放电和射频 (RF)辉光放电等离子体浸没离子注入 (PIII)工艺对 4 5钢表面进行了氮离子注入强化处理。通过X射线光电子能谱 (XPS)、扫描电子显微镜 (SEM)、显微硬度、针 -盘磨损和电化学腐蚀试验等测试手段 ,分析比较了经灯丝放电PIII和RF辉光放电PIII改性后试样表面元素的浓度分布、显微硬度、摩擦磨损性能和耐腐蚀性能。结果表明 :不同条件下的氮离子注入均能提高 4 5钢表面的显微硬度、耐磨性和抗腐蚀性能 ;且RF辉光放电PIII处理后试样的显微硬度提高了 76 8% ,摩擦系数下降到 0 3,与灯丝放电PIII处理后的试样相比 ,其表面强化效果更加明显。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入(PⅢ) 45钢 摩擦磨损性能 耐腐蚀性
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氮等离子体浸没离子注入技术改善轴承钢滚动接触疲劳寿命和机械性能的研究 被引量:17
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作者 刘洪喜 李小棒 李琪军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期31-36,共6页
研究了氮等离子体浸没离子注入(N-PIII)技术处理后GCr15轴承钢表面的滚动接触疲劳特征和机械性能。测试了改性前后试样的滚动接触疲劳寿命和磨痕光学形貌、摩擦磨损行为及纳米压痕硬度。结果表明,处理后试样的最大显微硬度较基体增大近... 研究了氮等离子体浸没离子注入(N-PIII)技术处理后GCr15轴承钢表面的滚动接触疲劳特征和机械性能。测试了改性前后试样的滚动接触疲劳寿命和磨痕光学形貌、摩擦磨损行为及纳米压痕硬度。结果表明,处理后试样的最大显微硬度较基体增大近一倍,摩擦系数从0.95下降到0.15。在赫兹接触应力为5.1 GPa,90%置信区间下的L10和L50寿命分别增加了99.6%和236.3%。分析不同处理参数下的Weibull分布曲线和光学显微形貌可知,脉冲偏压、材料内部缺陷、基体表面粗糙度、注入时间和N离子注入剂量对疲劳寿命均有很大影响。疲劳寿命和相关机械性能的改善主要源于N-PIII处理所导致的氮化物强化相和残余压应力的共同作用。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 滚动接触疲劳寿命 摩擦磨损行为 机械性能 轴承钢
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轴承滚珠等离子体浸没离子注入过程的数值模拟 被引量:1
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作者 于永澔 王浪平 +5 位作者 王小峰 汤宝寅 甘孔银 刘洪喜 王宇航 王松雁 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1598-1602,共5页
 利用轴对称PIC模型对轴承滚珠等离子体浸没离子注入(PIII)过程进行了数值模拟,对归一化电势的扩展情况进行了研究。在滚珠批量处理过程中,为了避免相邻滚珠周围鞘层的相互重叠对注入均匀性造成不良影响,对滚珠在靶台上摆放的最小距离...  利用轴对称PIC模型对轴承滚珠等离子体浸没离子注入(PIII)过程进行了数值模拟,对归一化电势的扩展情况进行了研究。在滚珠批量处理过程中,为了避免相邻滚珠周围鞘层的相互重叠对注入均匀性造成不良影响,对滚珠在靶台上摆放的最小距离进行了数值计算,计算结果表明:在电压为-40kV,氮等离子体密度为4.8×109cm-3,脉冲宽度为10μs时,滚珠摆放的最小距离应大于34.18cm。分析了滚珠圆周方向注入剂量的分布情况,针对静止滚珠改性处理后剂量分布很不均匀的问题,通过旋转靶台使滚珠注入均匀性明显得到改善。利用朗谬尔探针测量了滚珠周围鞘层扩展的情况测量,模拟结果和实验测量结果相吻合,最大相对误差小于8.4%。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 鞘层动力学数值模拟 注入剂量均匀性
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脉冲宽度对偏转电场法内表面等离子体浸没离子注入的影响 被引量:1
17
作者 刘爱国 陆显文 +1 位作者 王小峰 汤宝寅 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1999年第S1期121-123,共3页
近年来 ,采用等离子体浸没离子注入 (PIII)对零部件内表面进行改性处理引起了各国研究工作者的广泛关注 .研究表明 ,提出的偏转电场法是进行内表面注入处理的有效方法 ,可以极大提高内表面注入的注入剂量和注入能量 .研究了采用偏转电... 近年来 ,采用等离子体浸没离子注入 (PIII)对零部件内表面进行改性处理引起了各国研究工作者的广泛关注 .研究表明 ,提出的偏转电场法是进行内表面注入处理的有效方法 ,可以极大提高内表面注入的注入剂量和注入能量 .研究了采用偏转电场法注入时注入电压脉冲宽度对注入效果的影响 .结果表明 ,长注入脉宽可以提高内表面注入能量 ,但对注入剂量影响不大 ;脉冲宽度对注入峰值深度和注入剂量的分布有很大影响 ,长注入脉宽使注入峰值深度和注入剂量的最大值向筒内部移动 ;采用适当的不同宽度脉冲进行注入 ,可以改善注入均匀性 . 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 脉冲宽度 偏转电场法 内表面
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Ti6A14V的射频激励等离子体浸没离子注入 被引量:1
18
作者 王松雁 田修波 +4 位作者 汤宝寅 陈轶斌 王小峰 魏强 曾照明 《表面工程》 CSCD 1997年第2期18-21,共4页
本文利用电感耦合的射频激励产生的氮等离子体对Ti6A14V进行等离子体浸没离子注入.处理结果发现,随射频功率及氮离子注入剂量增加,Ti6A4V表面显微硬度增加;注入能量及剂量对材料摩擦磨损性能有显著影响,而且注入能量不同,最佳注... 本文利用电感耦合的射频激励产生的氮等离子体对Ti6A14V进行等离子体浸没离子注入.处理结果发现,随射频功率及氮离子注入剂量增加,Ti6A4V表面显微硬度增加;注入能量及剂量对材料摩擦磨损性能有显著影响,而且注入能量不同,最佳注入剂量也相应变化;射频激励下等离子体浸没离子注入具有注入和氮化双重作用. 展开更多
关键词 剂量 等离子体浸没离子注入 表面显微硬度 射频 增加 等离子体 处理结果 氮化 摩擦磨损性能 应变
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等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展 被引量:3
19
作者 陈惠敏 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第5期79-81,共3页
等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除... 等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除了常规束线离子注入所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉。综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用,展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景。 展开更多
关键词 常规束线离子注入 等离子体浸没离子注入 等离子 表面改性
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等离子体浸没离子注入球形靶的鞘层尺度 被引量:3
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作者 田修波 Paul K.Chu 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第2期99-104,共6页
对于等离子体浸没离子注入 (PIII)技术 ,球形靶鞘层尺度预测对真空室设计、批量处理研究等是十分有用的。但由于球形靶鞘层Child Langmuir定律数学表达的非线性使得工程应用较为困难。本文对球形靶的鞘层尺度进行了数值求解、讨论了注... 对于等离子体浸没离子注入 (PIII)技术 ,球形靶鞘层尺度预测对真空室设计、批量处理研究等是十分有用的。但由于球形靶鞘层Child Langmuir定律数学表达的非线性使得工程应用较为困难。本文对球形靶的鞘层尺度进行了数值求解、讨论了注入参数对鞘层尺度的影响。计算结果表明 ,鞘层厚度 (包括离子阵鞘层和稳态鞘层 )随球体半径或注入电压增加而增加 ,随等离子体密度增加而减小。但对于不同的参数区间 ,鞘层特性对参数的变化表现出不同的敏感性。当等离子体密度较高、注入电压较低时 ,稳态鞘层厚度对于靶体半径的变化极不敏感。相反鞘层厚度对靶体大小变化较为敏感。虽然平面靶与球形靶的离子阵鞘层尺度比值与等离子体密度及球体半径有关 ,但平面靶稳态鞘层尺度总是大于球形靶的。这对于实际的PIII应用具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 等离子体浸没离子注入 球形靶 鞘层尺度 金属 表面处理
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