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基于P3HT的有机薄膜晶体管环境稳定性提升
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作者 李强 丁莉峰 +4 位作者 李磊磊 李禹文 李鑫旺 马佳楠 桑胜波 《半导体技术》 CAS 北大核心 2025年第1期23-31,共9页
电子设备领域对高稳定性有机薄膜晶体管(OTFT)的需求日益增长。为了解决有机材料在环境因素作用下影响晶体管稳定性的问题,制备了一种新型OTFT,并同时采用两种方法来提高其环境稳定性:对晶体管进行表面钝化处理,利用钝化层的高化学稳定... 电子设备领域对高稳定性有机薄膜晶体管(OTFT)的需求日益增长。为了解决有机材料在环境因素作用下影响晶体管稳定性的问题,制备了一种新型OTFT,并同时采用两种方法来提高其环境稳定性:对晶体管进行表面钝化处理,利用钝化层的高化学稳定性隔绝空气中的氧分子和水分子;利用聚(3-己基噻)(P3HT)共混聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)有源层获得高抗氧化性和抗水解能力。测试结果表明,经过60d后器件载流子迁移率仅降低到原始值的87.91%,电流开关比降低到原来的81.90%,说明本文提出的环境稳定性提升方法优于其他方法。 展开更多
关键词 聚(3-己基噻吩)(P3HT) 有机薄膜晶体管(Otft) 稳定性提升 表面钝化 有源层共混
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CEC·咸阳第8.6代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)项目
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《建筑》 2024年第1期112-113,共2页
一、工程概况该工程位于陕西省咸阳市,是我国建成投产的第一条8.6代液晶面板生产线,是国家“十三五”规划重大工程。工程是全球最大且唯一建设在高烈度区的多层全钢结构超洁净智能环保高科技电子厂房,占地面积57.4万m2,建筑面积71.2万m2... 一、工程概况该工程位于陕西省咸阳市,是我国建成投产的第一条8.6代液晶面板生产线,是国家“十三五”规划重大工程。工程是全球最大且唯一建设在高烈度区的多层全钢结构超洁净智能环保高科技电子厂房,占地面积57.4万m2,建筑面积71.2万m2,包括生产厂房、动力中心及配套建筑等19个单体。 展开更多
关键词 全钢结构 生产厂房 占地面积 液晶面板 高科技电子 陕西省咸阳市 薄膜晶体管液晶显示器件 高烈度区
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氧化锌锡薄膜晶体管的制备与性能研究 被引量:1
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作者 初学峰 胡小军 +2 位作者 张祺 黄林茂 谢意含 《液晶与显示》 CSCD 北大核心 2024年第1期40-47,共8页
为了提高薄膜晶体管的性能,本文基于射频磁控溅射技术,采用氧化锌锡(ZTO)材料作为沟道层,在SiO2/p-Si衬底上制备高性能ZTO薄膜晶体管。采用AFM、XRD、UV-Vis研究了溅射功率对ZTO薄膜的表面形貌和光学性能的影响。使用半导体参数仪对ZTO... 为了提高薄膜晶体管的性能,本文基于射频磁控溅射技术,采用氧化锌锡(ZTO)材料作为沟道层,在SiO2/p-Si衬底上制备高性能ZTO薄膜晶体管。采用AFM、XRD、UV-Vis研究了溅射功率对ZTO薄膜的表面形貌和光学性能的影响。使用半导体参数仪对ZTO薄膜晶体管进行电学性能的测试,利用XPS分析研究溅射功率对ZTO薄膜中元素组成和价态的影响,探索高性能薄膜晶体管的原理机制。实验结果表明,所有ZTO薄膜样品是非晶结构,表面致密,透光率均大于90%。适当增加溅射功率能够改善ZTO薄膜晶体管的电学性能。在90 W溅射功率下制备的薄膜晶体管综合性能较好,其饱和迁移率达到了15.61 cm^(2)/(V·s),亚阈值摆幅为0.30 V/decade,阈值电压为-5.06 V,电流开关比为8.92×10^(9)。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 溅射功率 XPS分析 ZTO薄膜
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高性能有机薄膜晶体管(OTFT)制备及其导电机制 被引量:2
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作者 江潮 于爱芳 祁琼 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第7期385-390,共6页
详细介绍了在SiO2和高kHfO2介质层上制备并五苯薄膜晶体管方面的研究,特别是利用原子力显微技术(AFM)和静电力显微技术(EFM)研究了并五苯分子初始生长模式,揭示了衬底形貌、表面化学性能(包括化学清洗和聚合物层修饰)对有机半导体成膜... 详细介绍了在SiO2和高kHfO2介质层上制备并五苯薄膜晶体管方面的研究,特别是利用原子力显微技术(AFM)和静电力显微技术(EFM)研究了并五苯分子初始生长模式,揭示了衬底形貌、表面化学性能(包括化学清洗和聚合物层修饰)对有机半导体成膜结构和薄膜场效应晶体管性能之间的关联,包括晶体管迁移率、开关比和阈值电压等;针对并五苯初始生长成核模式的差异,分析了不同岛(畴)间畴边界对载流子在有机薄膜内输运的影响,有助于理解有机半导体薄膜导电机理。通过优化和控制介电层和有机半导体薄膜层的界面化学性质,在SiO2介质层上成功制备出迁移率为1.0cm2/V.s、开关电流比达到106的OTFT器件;在高kHfO2介质层上获得的OTFT器件的工作电压在-5V以下,开关电流比达到105,载流子迁移率为0.6cm2/V.s;器件性能指标已经达到目前国际上文献报道的最好水平。 展开更多
关键词 有机薄膜晶体管 并五苯 初始生长模式 导电机制
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有机薄膜晶体管(OTFT)的研究进展 被引量:5
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作者 刘翔 邓振波 +2 位作者 王章涛 崔祥彦 贾勇 《现代显示》 2007年第12期54-60,共7页
有机薄膜晶体管(organic thin film transistor,OTFT)具有工艺简单、成本低及柔韧性良好等优点,成为下一代显示技术的研究焦点。本文综述了有机薄膜晶体管的研究现状和未来的发展趋势,比较了采用不同材料的OTFT器件的性能,总结了影响OTF... 有机薄膜晶体管(organic thin film transistor,OTFT)具有工艺简单、成本低及柔韧性良好等优点,成为下一代显示技术的研究焦点。本文综述了有机薄膜晶体管的研究现状和未来的发展趋势,比较了采用不同材料的OTFT器件的性能,总结了影响OTFT性能的两大主要因素,即栅极绝缘层与有机有源层之间的界面特性和有机有源层与源/漏电极之间欧姆接触电阻的大小,并详细综述了改善OTFT性能的最新方法和研究成果。 展开更多
关键词 有机薄膜晶体管 界面 欧姆接触电阻
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喷墨打印高迁移率铟锌锡氧化物薄膜晶体管
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作者 赵泽贤 徐萌 +4 位作者 彭聪 张涵 陈龙龙 张建华 李喜峰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期377-384,共8页
采用喷墨打印工艺制备了铟锌锡氧化物(indium-zinc-tin-oxide,IZTO)半导体薄膜,并应用于底栅顶接触结构薄膜晶体管(thin-film transistor,TFT).研究了墨水的溶剂成分以及溶质浓度对打印薄膜图案轮廓的影响.结果表明二元溶剂IZTO墨水中... 采用喷墨打印工艺制备了铟锌锡氧化物(indium-zinc-tin-oxide,IZTO)半导体薄膜,并应用于底栅顶接触结构薄膜晶体管(thin-film transistor,TFT).研究了墨水的溶剂成分以及溶质浓度对打印薄膜图案轮廓的影响.结果表明二元溶剂IZTO墨水中乙二醇溶剂可有效平衡溶质向内的马兰戈尼回流与向外的毛细管流,避免了单一溶剂墨水下溶质流动不平衡造成IZTO薄膜的咖啡环状沉积轮廓图案,获得均匀平坦的薄膜图案轮廓和良好接触特性,接触电阻为820Ω,优化后IZTO TFT器件的饱和迁移率达到16.6 cm^(2)/(V·s),阈值电压为0.84 V,开关比高达3.74×10^(9),亚阈值摆幅为0.24 V/dec.通过打印薄膜凝胶化模型解释了IZTO墨水溶剂成分、溶质浓度与最终薄膜形貌的关系. 展开更多
关键词 喷墨打印 金属氧化物半导体 咖啡环效应 薄膜晶体管
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IGZO薄膜晶体管生物传感器无标记检测强直性脊柱炎
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作者 吕腾博 刘嘉乐 +3 位作者 刘丽 李昕 韩传余 王小力 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期157-163,共7页
为了快速检测强直性脊柱炎血清学分子标志物人体白细胞抗原(HLA-B27),开发了一种基于人体白细胞抗原B27(HLA-B27)功能化的氧化铟镓锌(IGZO)薄膜晶体管生物传感器。利用射频磁控溅射技术和微纳加工工艺制备了IGZO薄膜晶体管(IGZO TFT),采... 为了快速检测强直性脊柱炎血清学分子标志物人体白细胞抗原(HLA-B27),开发了一种基于人体白细胞抗原B27(HLA-B27)功能化的氧化铟镓锌(IGZO)薄膜晶体管生物传感器。利用射频磁控溅射技术和微纳加工工艺制备了IGZO薄膜晶体管(IGZO TFT),采用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)和抗体对IGZO TFT进行修饰,制备出针对HLA-B27检测的生物传感器。实验结果表明,功能化的IGZO TFT生物传感器具有稳定的电学特性和传感性能。传感器对HLA-B27的检测极限为1 pg/mL,在1 pg/mL至100 ng/mL的范围内均有良好的线性响应。这说明所设计的高性能生物传感器能够有效检测出强直性脊柱炎的标志物。此外,IGZO TFT可以扩展为传感器阵列平台,实现对某种疾病多种标志物的联合检测,在便携式床旁诊断设备的应用中具有巨大潜力。 展开更多
关键词 IGZO 薄膜晶体管 生物传感器 强直性脊柱炎 人体白细胞抗原B27
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高迁移率金属氧化物半导体薄膜晶体管的研究进展 被引量:2
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作者 李强 葛春桥 +4 位作者 陈露 钟威平 梁齐莹 柳春锡 丁金铎 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期447-465,共19页
基于金属氧化物半导体(MOS)的薄膜晶体管(TFT)由于较高的场效应迁移率(μFE)、极低的关断漏电流和大面积电性均匀等特点,已成为助推平板显示或柔性显示产业发展的一项关键技术。经过30余年的研究,非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)率先替代非晶... 基于金属氧化物半导体(MOS)的薄膜晶体管(TFT)由于较高的场效应迁移率(μFE)、极低的关断漏电流和大面积电性均匀等特点,已成为助推平板显示或柔性显示产业发展的一项关键技术。经过30余年的研究,非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)率先替代非晶硅(a-Si)在TFT中得到推广应用。然而,为了同时满足显示产业对更高生产效益、更佳显示性能(如高分辨率、高刷新率等)和更低功耗等多元升级要求,需要迁移率更高的MOS TFTs技术。本文从固体物理学的角度,系统综述了MOS TFTs通过多元MOS材料实现高迁移率特性的研究进展,并讨论了迁移率与器件稳定性之间的关系。最后,总结展望了MOS TFTs的现状和发展趋势。 展开更多
关键词 金属氧化物半导体 薄膜晶体管 场效应迁移率 偏压稳定性
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柔性氧化物薄膜晶体管栅绝缘层的研究进展 被引量:1
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作者 谭海星 林剑荣 +5 位作者 黄培源 彭憬怡 刘思 陈建文 徐华 肖鹏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第23期20-28,共9页
柔性氧化物薄膜晶体管(Thin-film transistor,TFT)因具有迁移率高、电流开关比大、器件均一性好、柔韧性好和轻薄等优点而备受业界关注,广泛应用于柔性有机发光二极管(OLED)显示、柔性传感、仿生突触等领域。其中,栅绝缘层对柔性氧化物... 柔性氧化物薄膜晶体管(Thin-film transistor,TFT)因具有迁移率高、电流开关比大、器件均一性好、柔韧性好和轻薄等优点而备受业界关注,广泛应用于柔性有机发光二极管(OLED)显示、柔性传感、仿生突触等领域。其中,栅绝缘层对柔性氧化物TFT的性能至关重要,它不仅影响着器件的基本电学性能,对器件的偏压、光照稳定性也有着明显的影响。因此,栅绝缘层材料及其制备工艺是实现高性能柔性氧化物TFT制备的关键。本工作综述了柔性氧化物TFT栅绝缘层的研究进展,首先介绍了几种典型的栅绝缘层薄膜制备技术;然后介绍了可应用于柔性氧化物TFT的栅绝缘层材料,包括无机高介电常数(高K)栅绝缘层材料(如氧化锆(ZrO_(2))、氧化铪(HfO_(2))和氧化铝(Al_(2)O_(3)))、有机栅绝缘层材料(如聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和聚乙烯醇(PVA))以及双电层电解质栅绝缘层材料,并论述了几种栅绝缘层材料的优缺点;最后对柔性氧化物TFT的栅绝缘层技术特点和应用进行了总结,并对未来栅绝缘层技术的发展和研究进行了展望。 展开更多
关键词 柔性 薄膜晶体管 栅绝缘层 高介电常数
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基于薄膜晶体管的冠状病毒检测研究进展
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作者 涂建新 郝魁 +1 位作者 孙乐 李爱军 《上海大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2024年第6期989-1005,共17页
薄膜晶体管(thin-film transistors,TFTs)已广泛应用于生物电子学领域,用来检测代谢物、核酸、蛋白质、细胞活动和电生理信号.在新冠病毒大流行期间,基于TFTs的COVID-19生物传感器展现出良好的性能和高应用潜力.石墨烯场效应晶体管(grap... 薄膜晶体管(thin-film transistors,TFTs)已广泛应用于生物电子学领域,用来检测代谢物、核酸、蛋白质、细胞活动和电生理信号.在新冠病毒大流行期间,基于TFTs的COVID-19生物传感器展现出良好的性能和高应用潜力.石墨烯场效应晶体管(graphene field-effect transistors,GFETs)、氧化物薄膜晶体管、有机场效应晶体管(organic field-effect transistors,OFETs)和有机电化学晶体管(organic electrochemical transistors,OECTs)等薄膜晶体管在病毒、RNA、抗原、抗体的检测中均取得了良好的结果.总结了基于薄膜晶体管的新冠病毒和相关生物标志物检测的生物传感器,讨论了基于不同沟道材料晶体管的传感策略.最后,对未来薄膜晶体管应用于病毒检测的研究方向提出展望. 展开更多
关键词 薄膜晶体管 生物传感器 冠状病毒检测 有机电化学晶体管 有机场效应晶体管
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非晶铟镓锌氧薄膜晶体管反相器稳定性提升的电路设计
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作者 江舒 张天昊 +2 位作者 魏晓敏 李梁栋 董承远 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1182-1191,共10页
薄膜晶体管(TFT)反相器的稳定性问题是影响其在玻璃上系统(SOG)显示技术等领域中实际应用的重要挑战。本文基于实验数据提取了非晶铟镓锌氧TFT器件仿真模型,拟合并得到了其阈值电压变化幅度(ΔVTH)与电压偏置时间的拉伸指数方程。在此... 薄膜晶体管(TFT)反相器的稳定性问题是影响其在玻璃上系统(SOG)显示技术等领域中实际应用的重要挑战。本文基于实验数据提取了非晶铟镓锌氧TFT器件仿真模型,拟合并得到了其阈值电压变化幅度(ΔVTH)与电压偏置时间的拉伸指数方程。在此基础上,探究了传统伪CMOS反相器的电学稳定性随偏置时间的变化规律,并提出了一种改进的TFT反相器电路,对其进行管宽调节并设计了物理版图。改进型反相器通过延迟输出级下拉管的开启使输出高电平值接近电源电压,增加了18.47%。通过反馈缓解其阈值电压漂移所导致的等效电阻增大对输出级电流的影响,显著提高了其速度稳定性。在电压偏置时间为2.56×10^(7)s时,其上升时间的变化率只有4.09%,远低于传统伪CMOS反相器的296.11%。 展开更多
关键词 反相器 薄膜晶体管 稳定性 非晶铟镓锌氧 玻璃上系统
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薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD专利图表与分析 被引量:1
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作者 范文 《中国科技信息》 2014年第15期211-212,共2页
专利及专利图表是重要的信息资源,文中绘制了一些薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD专利图表等,并分析了图表中信息和专利内容。
关键词 薄膜晶体管液晶显示器 tft-LCD 专利 图表 信息资源
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低温多晶硅薄膜晶体管(p—SiTFT)制作新技术 被引量:1
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作者 季旭东 《光电技术》 2003年第1期49-53,共5页
制作低温多晶硅薄膜晶体管层是制作高性能液晶显示器件技术的一个重要组成部分。本文对制作液晶显示器件的多晶硅薄膜晶体管层工艺及其改进进行了讨论。
关键词 低温多晶硅 液晶显示 薄膜晶体管 技术制造 p—Sitft 物理蒸镀-溅射法
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非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管制备工艺及性能研究
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作者 刘丽 吕腾博 +2 位作者 刘嘉乐 程乾 王小力 《物理与工程》 2024年第3期178-185,共8页
本文介绍了利用射频磁控溅射技术在氧化硅衬底上制备非晶氧化铟镓锌(a-IGZO)薄膜,对溅射的薄膜进行了不同条件下的特性分析,制备成a-IGZO薄膜晶体管(a-IGZO TFT),并分别研究了溅射气氛、有源层厚度和退火工艺对器件电学性能的影响。实... 本文介绍了利用射频磁控溅射技术在氧化硅衬底上制备非晶氧化铟镓锌(a-IGZO)薄膜,对溅射的薄膜进行了不同条件下的特性分析,制备成a-IGZO薄膜晶体管(a-IGZO TFT),并分别研究了溅射气氛、有源层厚度和退火工艺对器件电学性能的影响。实验表明,当使用50W的溅射功率时,溅射过程中补充氧气,可以填补材料的深能级氧空位缺陷,提高了器件性能。但氧气浓度过大也会造成吸附氧等受主缺陷增多,更易发生载流子的散射,实验中采用氩氧比为Ar∶O2=24∶1.2的条件器件性能较好。其次,当有源层厚度控制在40~50nm时,器件性能较好,且40nm的薄膜性质更佳。最后,高温退火工艺可以改善薄膜的缺陷,消除薄膜内部原有应力。相比氮气退火条件,将薄膜在空气下退火可以实现更好的电学特性,将40nm的薄膜在空气下400℃退火30min,a-IGZO TFT的性能达到最佳,其迁移率为15.43cm^(2)/(V·s),阈值电压为13.09V,电流开关比为7.3×10^(8),为将来制备晶圆级的高迁移a-IGZO TFT奠定了基础。 展开更多
关键词 铟镓锌氧化物 薄膜晶体管 磁控溅射 有源层厚度 退火
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薄膜晶体管型液晶显示器(TFT-LCD)产业主要竞争者中国专利分析
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作者 孙靓 张犁朦 《中国科技信息》 2012年第22期104-105,共2页
利用专利分析软件对薄膜晶体管型液晶显示器(TFT-LCD)产业中国专利进行分析。专利分析得出国外企业在该领域已经大量布局。近年来,国外企业在华专利申请量呈减少趋势,而本土企业专利申请量上升趋势明显。目前,该产业可能已经处于技术成... 利用专利分析软件对薄膜晶体管型液晶显示器(TFT-LCD)产业中国专利进行分析。专利分析得出国外企业在该领域已经大量布局。近年来,国外企业在华专利申请量呈减少趋势,而本土企业专利申请量上升趋势明显。目前,该产业可能已经处于技术成熟期。 展开更多
关键词 薄膜晶体管型液晶显示器 tft-LCD 专利分析
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基于薄膜晶体管的铁电/驻极体协同有机光电突触
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作者 李志达 赖秉琳 +3 位作者 李博文 王弘禹 洪上超 张国成 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期227-234,共8页
基于薄膜晶体管结构,在铁电突触晶体管的基础上,增加了驻极体这一功能层,制备出一种铁电/驻极体突触晶体管。与传统的铁电突触晶体管相比,其开关比增大了一个数量级,阈值电压减少了10 V。薄膜表面的均方根粗糙度从2.95 nm降到0.66 nm,... 基于薄膜晶体管结构,在铁电突触晶体管的基础上,增加了驻极体这一功能层,制备出一种铁电/驻极体突触晶体管。与传统的铁电突触晶体管相比,其开关比增大了一个数量级,阈值电压减少了10 V。薄膜表面的均方根粗糙度从2.95 nm降到0.66 nm,有利于载流子的传输。同时,在不同颜色的光照下,该器件呈现出4种不同的突触状态,多级光电突触的功能使其有望降低神经网络的复杂性。 展开更多
关键词 人工突触 薄膜晶体管 铁电突触晶体管 驻极体 光电突触。
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不同厚度铁电薄膜的制备及15nm Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_(2)铁电晶体管性能研究
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作者 肖金盼 袁晓博 +2 位作者 刘宗芳 LEE Choonghyun 赵毅 《智能物联技术》 2024年第2期29-37,共9页
在铁电场效应晶体管(Ferroelectric Field Effect Transistor,FeFET)中,Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_(2)(HZO)铁电薄膜的厚度是影响晶体管性能的关键参数。通过制备不同厚度铁电薄膜的铁电电容对其进行测试,选择最优厚度的铁电薄膜,设计制备一种1... 在铁电场效应晶体管(Ferroelectric Field Effect Transistor,FeFET)中,Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_(2)(HZO)铁电薄膜的厚度是影响晶体管性能的关键参数。通过制备不同厚度铁电薄膜的铁电电容对其进行测试,选择最优厚度的铁电薄膜,设计制备一种15 nm Hf_(0.5)Zr_(0.5)O_(2)铁电薄膜的铁电晶体管——Si/HZO/W(MFS)栅极结构的铁电晶体管。它的剩余极化强度2Pr达到30μC·cm^(-2),具有高的循环稳定性和倍率性能,电压窗口达到1.2 V,在铁电存储器领域具有巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 铁电晶体管 铁电薄膜厚度 记忆窗口
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IAZO薄膜晶体管的制备与性能研究
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作者 张祺 初学峰 +2 位作者 胡小军 黄林茂 谢意含 《日用电器》 2024年第4期113-118,共6页
为了探究退火温度对IAZO薄膜晶体管器件光电性能的影响,采用射频溅射单溅射法,并在(400~700)℃的范围内制备了一系列真空退火后的IAZO薄膜晶体管。分别对IAZO薄膜表面形貌、内部结构、元素组成和价态组成进行分析,采用半导体参数仪及搭... 为了探究退火温度对IAZO薄膜晶体管器件光电性能的影响,采用射频溅射单溅射法,并在(400~700)℃的范围内制备了一系列真空退火后的IAZO薄膜晶体管。分别对IAZO薄膜表面形貌、内部结构、元素组成和价态组成进行分析,采用半导体参数仪及搭配的探针台测试电学性能测试。采用紫外可见分光光度计测试薄膜透过率。结果表明,随着退火温度的升高,器件的电学性能先呈现上升趋势,达到峰值后开始下降。在500 ℃真空退火1 h后,IAZO TFT饱和迁移率为0.18 cm2/(V·s)、阈值电压为3.35 V、亚阈值摆幅为0.10 V/decade、开关比为1.13*108。IAZO薄膜透光率达到90 %以上、光学带隙达到4.1 eV,器件性能达到最佳。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 退火处理 XPS分析 铟铝锌氧化物 光电性能
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低温快速制备基于溶液工艺的高性能氧化铟薄膜及晶体管
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作者 张雪 Kim Bokyung +1 位作者 Lee Hyeonju Park Jaehoon 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期236-243,共8页
利用脉冲紫外线辅助热退火在200℃的低温条件下,5 min内制备了基于溶液工艺的氧化铟薄膜及薄膜晶体管.对比传统热退火,研究了脉冲紫外线辅助热退火对氧化铟薄膜的表面形态、化学结构和电学特性的影响.实验结果表明,脉冲紫外线辅助热退... 利用脉冲紫外线辅助热退火在200℃的低温条件下,5 min内制备了基于溶液工艺的氧化铟薄膜及薄膜晶体管.对比传统热退火,研究了脉冲紫外线辅助热退火对氧化铟薄膜的表面形态、化学结构和电学特性的影响.实验结果表明,脉冲紫外线辅助热退火方式能够在短时间内实现改善氧化铟薄膜的质量及薄膜晶体管的性能.原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜结果显示该薄膜表面较传统热退火制备薄膜表面更为致密平坦.X射线光电能谱测试表明,脉冲紫外线辅助热退火处理后会产生氧空位,从而提高载流子浓度,改善了氧化铟薄膜的导电性.此外,对比研究了紫外线辅助热退火对氧化铟薄膜晶体管电气性能的影响.结果表明器件的电学特性得到了明显改善,亚阈值摆幅降低至0.12 mV/dec,阈值电压为7.4 V,电流开关比高达1.29×107,场效应迁移率提升至1.27 cm^(2)/(V·s).因此,脉冲紫外线辅助热退火是一种简单、快速的退火方式,即使在低温条件下也能快速提高氧化铟薄膜和薄膜晶体管的性能. 展开更多
关键词 脉冲紫外线辅助热退火 氧化铟 溶液法 薄膜晶体管
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不同工艺条件对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能影响
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作者 朱慧 孙烨镕 +4 位作者 李屹林 姚智文 张轶群 张之壤 刘行 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第8期914-920,共7页
为了探究不同工艺对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能的影响,对比了3种不同工艺薄膜晶体管的电学特性和陷阱特性。首先,通过瞬态电流法研究陷阱,运用陷阱对载流子的捕获和释放的特点测量得到瞬态电流曲线,通过分别改变栅压和漏压并结合不... 为了探究不同工艺对柔性低温多晶硅薄膜晶体管性能的影响,对比了3种不同工艺薄膜晶体管的电学特性和陷阱特性。首先,通过瞬态电流法研究陷阱,运用陷阱对载流子的捕获和释放的特点测量得到瞬态电流曲线,通过分别改变栅压和漏压并结合不同温度的陷阱去俘获峰值曲线提取的激活能分析得到不同俘获过程所对应的不同位置的3种陷阱。其次,用仪器测量器件的I-V特性曲线,提取器件的阈值电压V_(TH)、亚阈值摆幅S和迁移率μ进行比对分析。结果显示,样品A2的工艺改善了膜质,降低了器件的阈值电压和关态漏电流,同时降低了栅氧化层的陷阱密度;样品A4的工艺填补了界面和沟道内的悬挂键,优化了器件的迁移率和亚阈值摆幅,同时降低了界面和晶界的陷阱密度。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 陷阱 瞬态电流法 界面陷阱密度 晶界陷阱密度 电学特性
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