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非晶态TiO_2-SiO_2网络缺陷和Ti配位结构的ESR研究
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作者 周宇清 李家强 侯兰田 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1990年第3期65-66,共2页
在SiO2中掺杂其它原子会导致熔石英SiO4四面体网络部分破坏,形成缺陷。主要缺陷有非桥氧,E′心和过氧基。非桥氧为仅与一个Si原子(或Ti原子)成单键的O原子。E′心为与三氧配位的Si原子。剩余一个未配对的印杂化电子形成悬键轨道。过... 在SiO2中掺杂其它原子会导致熔石英SiO4四面体网络部分破坏,形成缺陷。主要缺陷有非桥氧,E′心和过氧基。非桥氧为仅与一个Si原子(或Ti原子)成单键的O原子。E′心为与三氧配位的Si原子。剩余一个未配对的印杂化电子形成悬键轨道。过氧基则为游离氧被非桥氧俘获,或非桥氧彼此俘获而形成的。这三种缺陷各有一个未配对电子。 展开更多
关键词 非晶态 缺陷 配位结构 顺磁共振谱
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