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刻蚀腔室内衬用抗等离子体腐蚀涂层的研究现状 被引量：2
1
作者 张有茶 夏洋 +4 位作者 贾永昌 张庆钊 王文东 刘金虎 王聪瑜 《热喷涂技术》 2014年第3期19-23,共5页
干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子IC制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀。本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技... 干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子IC制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀。本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技术领域的发展展望了抗等离子体刻蚀涂层的未来发展趋势。 展开更多
关键词 等离子体刻蚀 腔室内衬 悬浮液等离子喷涂 在线监测
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