期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到6篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响（英文） 被引量：5
1
作者 冷健 季一勤 +2 位作者 刘华松 庄克文 刘丹丹 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第6期186-191,共6页
光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750... 光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750℃退火条件下SiO_2薄膜的弹性模量(Er)增加到72 GPa,膜层硬度增加到10 GPa。镀完后未经退火处理的SiO_2薄膜表现为压应力,但是应力值在退火温度达到450℃以上时急剧降低,说明热处理有助于改善SiO_2薄膜内应力。经退火处理的SiO_2薄膜泊松比(vf)为0.18左右。退火前后SiO_2薄膜的杨氏模量(Ef)都要比石英块体材料大,并且750℃退火膜层杨氏模量增加了50 GPa以上。550℃退火的SiO_2薄膜热膨胀系数(αf)从6.78×10^(-7)℃^(-1)降到最小值5.22×10^(-7)℃^(-1)。 展开更多
关键词 双离子束溅射 SIO2薄膜 退火 力学及热力学特性
在线阅读 下载PDF
热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析 被引量：3
2
作者 姜玉刚 王利栓 +4 位作者 刘华松 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第10期3334-3337,共4页
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为55... 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。 展开更多
关键词 SIO2薄膜 光学特性 热处理 折射率 弱吸收
在线阅读 下载PDF
离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性 被引量：2
3
作者 刘华松 傅翾 +4 位作者 王利栓 姜玉刚 冷健 庄克文 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第7期1770-1775,共6页
离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度... 离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。 展开更多
关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 正交实验 光学常数 沉积速率 应力
在线阅读 下载PDF
Cu调控的TiN-Cu纳米复合膜包覆钛合金的抗菌性研究 被引量：2
4
作者 赵梦鲤 刘孟寅 +5 位作者 韩笑 纪醒明 吴杰 董雷 董磊 李德军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期952-959,共8页
利用磁控共溅射技术在钛合金(Ti6Al4V)表面包覆氮化钛-铜纳米(TiN-Cu)复合膜,并通过控制Cu靶溅射功率实现对TiN-Cu薄膜中Cu含量的调节,进而实现对材料耐蚀性和抗菌性的协同调控。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、能谱... 利用磁控共溅射技术在钛合金(Ti6Al4V)表面包覆氮化钛-铜纳米(TiN-Cu)复合膜,并通过控制Cu靶溅射功率实现对TiN-Cu薄膜中Cu含量的调节,进而实现对材料耐蚀性和抗菌性的协同调控。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、能谱仪分析了包覆TiN-Cu纳米复合膜的钛合金的表面形貌、相结构、元素成分及价态,并在模拟体液条件下测试了该材料的耐腐蚀性能,通过体外抗菌实验评价了Cu含量对材料抗菌性的影响。结果表明:通过在Ti6Al4V表面包覆TiN-Cu纳米复合薄膜显著增强了材料的抗菌性;并抑制了有毒性的V4+、Al3+离子在体液中的释放。Cu靶溅射功率升高在提高TiN-Cu薄膜中Cu含量和薄膜沉积速率的同时,也导致了薄膜中大量柱状晶体结构的生成,加速了薄膜的腐蚀,但提高了抗菌性。综上,合理调控Cu的含量是协同提升TiN-Cu薄膜的耐腐蚀性及抗菌性的关键。 展开更多
关键词 钛合金 磁控共溅射 TiN-Cu复合膜 耐腐蚀性 抗菌性
在线阅读 下载PDF
毫米波在SiO_2基底材料中的传播特性 被引量：1
5
作者 刘华松 余俊宏 +2 位作者 冷健 庄克文 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第4期1145-1149,共5页
红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波,给出了介质材料厚度设计的准则,分析了SiO2材料不... 红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波,给出了介质材料厚度设计的准则,分析了SiO2材料不同物理厚度和物理厚度偏差对毫米波传输性能的影响。分析结果表明:基底物理厚度越大,基底物理厚度偏差对毫米波透射、反射和吸收性能的影响就越大,要求也越精确。对红外/毫米波分频器件的设计有一定的参考价值。 展开更多
关键词 红外 毫米波 物理厚度 厚度偏差
在线阅读 下载PDF
一种抑制二倍频半波孔现象的短波通设计方法 被引量：5
6
作者 鲍刚华 焦宏飞 +2 位作者 程鑫彬 刘华松 王占山 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期327-332,共6页
短波通滤色片是光学系统,尤其是激光系统中普遍使用的一种薄膜,它的基本结构为(0.5LH0.5L)N。但薄膜的非均质性会产生半波孔现象,从而影响滤色片的光学特性。利用导纳技术分析了折射率非均质性产生半波孔现象的原因:非均质性使常规膜系... 短波通滤色片是光学系统,尤其是激光系统中普遍使用的一种薄膜,它的基本结构为(0.5LH0.5L)N。但薄膜的非均质性会产生半波孔现象,从而影响滤色片的光学特性。利用导纳技术分析了折射率非均质性产生半波孔现象的原因:非均质性使常规膜系基本周期内导纳轨迹的终点偏离起点;这种偏离越大,半波孔现象就越严重。优化了常规膜系的基本周期结构,通过在高低折射率膜层之间引入导纳匹配层,使得改良后的基本周期导纳轨迹的终点与起点偏差大大减小,提高了半波处的透射率,从而提出了一种可以抑制由非均质性引起的半波孔现象的短波通设计方法,并依据实际制备工艺进行了误差分析。最终成功制备出了具有超宽透射带的短波通滤色片,实验和理论曲线具有很好的一致性。 展开更多
关键词 薄膜 短波通滤色片 半波孔 导纳匹配 非均质性
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部