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前驱体煅烧法制备CeO_(2)颗粒及其抛光性能的研究 被引量：1
1
作者 陈向晖 赵东 +1 位作者 裴文利 杨兴波 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期251-256,共6页
以Ce(OH)_(3)为前驱体,采用前驱体煅烧法制备CeO_(2)抛光粉。通过调节煅烧温度、升温速率和保温时间获得的具有不同比表面积的CeO_(2)颗粒样品,将样品球磨破碎,制备出中位粒径为(1.0±0.1)μm的CeO_(2)抛光液。通过分析CeO_(2)抛光... 以Ce(OH)_(3)为前驱体,采用前驱体煅烧法制备CeO_(2)抛光粉。通过调节煅烧温度、升温速率和保温时间获得的具有不同比表面积的CeO_(2)颗粒样品,将样品球磨破碎,制备出中位粒径为(1.0±0.1)μm的CeO_(2)抛光液。通过分析CeO_(2)抛光液对K9玻璃的抛光切削量和表面粗糙度Ra值来评价其抛光性能,采用比表面仪(BET)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)等表征手段对样品的比表面积、物相组成、微观组织结构和抛光玻璃表面粗糙度进行分析,结果表明:前驱体Ce(OH)_(3)煅烧可以制备具有立方萤石结构、尺寸均匀的纳米级CeO_(2)抛光粉,煅烧温度的升高,保温时间的延长和升温速率降低均会使CeO_(2)颗粒的比表面积减小。CeO_(2)颗粒的比表面积是其抛光性能的关键,比表面积越小切削能力越强,本实验样品对K9玻璃的切削量最大可达900 nm·min^(-1),此外,比表面积对玻璃抛光质量也有重要影响,在比表面积为5 m^(2)·g^(-1)时,获得的玻璃表面粗糙度小,玻璃表面质量高。 展开更多
关键词 CeO_(2) 前驱体煅烧法 比表面积 切削量 粗糙度
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湿法球磨工艺对CeO_(2)粒度分布及抛光性能的影响 被引量：2
2
作者 张笑寒 陈向辉 +3 位作者 杨军 赵东 裴文利 徐民 《金属功能材料》 CAS 2021年第5期7-12,共6页
抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系,然而粒度相同的抛光粉,粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响。为了探究粒度分布对抛光性能的影响,以粒径较大的CeO_(2)粉为原料,使用不同球磨设备对CeO_(2)粉进行细化,设置不同的球磨工艺参数... 抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系,然而粒度相同的抛光粉,粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响。为了探究粒度分布对抛光性能的影响,以粒径较大的CeO_(2)粉为原料,使用不同球磨设备对CeO_(2)粉进行细化,设置不同的球磨工艺参数并添加不同的助剂,获得中位粒径D50=1μm,具有不同粒度分布的CeO_(2)料液,添加一定量分散剂调配成固含量10%(质量分数)的抛光液。用9B双面抛光机对K9玻璃进行抛光,记录玻璃单位时间质量减少量,并利用原子力显微镜测量抛光表面粗糙度。结果表明,设置不同的球磨工艺可以对CeO_(2)粒径分布进行调控,CeO_(2)粒度分布较窄时,具有较高的抛光去除率MRR,粒度分布适中时,兼具抛光效率与表面质量。使用行星式搅拌球磨机,选用直径为3mm的磨珠、球料比为5∶1,抛光机转速为30rpm,浆液流速为30rpm、并在球磨介质中添加质量比为0.1%的聚丙烯酸钠作为助剂时,可获得最低的表面粗糙度Ra=0.849nm。 展开更多
关键词 CeO_(2) 抛光 球磨 粒度分布
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